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低溫等離子體表面處理儀

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  • 公司名稱深圳納恩科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/1/5 12:15:40
  • 訪問(wèn)次數(shù)676
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納恩科技始創(chuàng)于2010年,總部位于深圳市,在香港設(shè)有研發(fā)分公司,是一家專注于等離子材料表面清洗處理、真空鍍膜技術(shù)和智能裝備研發(fā),制造和銷售的高科技公司。目前主要產(chǎn)品包括真空等離子清洗機(jī),磁控濺射鍍膜設(shè)備,離子濺射儀,等離子刻蝕設(shè)備,等離子表面處理設(shè)備,輝光放電儀等。公司核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)來(lái)源于香港大學(xué)等離子實(shí)驗(yàn)室,香港理工大學(xué)材料工程學(xué)院和美國(guó)佐治亞理I學(xué)院的微電子學(xué)院。自成立以來(lái),納恩科技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進(jìn)行技術(shù)布局,不斷拓展自主設(shè)計(jì)能力。目前已完成以MCU, ARM為核心的射頻芯片開(kāi)發(fā)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了芯芯的結(jié)構(gòu)化和模塊化開(kāi)發(fā)。具有高精度模擬、網(wǎng)絡(luò)阻抗匹配、功率驅(qū)動(dòng)、功率器件、射頻和底層核心算法的設(shè)計(jì)能力,可針對(duì)不同細(xì)分領(lǐng)域等子處理系統(tǒng)需求,快速做出底層硬件組合,提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。公司著眼于化的戰(zhàn)略布局,目前在北京、上海、 成都,廈門均設(shè)立辦事處,在新加坡,尼黑設(shè)有辦公聯(lián)絡(luò)處。納恩科技以前沿的創(chuàng)新理念、的核心技術(shù)在我國(guó)制造裝備行業(yè)扮演著關(guān)鍵角色,公司堅(jiān)持負(fù)"推動(dòng)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步、保障國(guó)防安全、提升生活品質(zhì)”這一神圣使命,致力成為的等離子技術(shù)處理方案供應(yīng)商,在世界高科技舞臺(tái)的同場(chǎng)競(jìng)技之中,續(xù)寫(xiě)中國(guó)等離子產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新傳奇!
低溫等離子體表面處理儀主要由供氣控制單元,真空室,等離子發(fā)生器,真空泵,等幾部分組成,通過(guò)電容式耦合射頻輝光放電的方式產(chǎn)生低溫等離子體
低溫等離子體表面處理儀 產(chǎn)品信息
低溫等離子體表面處理儀主要由供氣控制單元,真空室,等離子發(fā)生器,真空泵,等幾部分組成,通過(guò)電容式耦合射頻輝光放電的方式產(chǎn)生低溫等離子體。等離子體中含有豐富的離子、電子、自由基等活性粒子,可以對(duì)材料表面產(chǎn)生多種效應(yīng)。在刻蝕和清潔作用的同時(shí),等離子體中的活性粒子將羧基(-COOH)、羥基(-OH)等含氧功能基團(tuán)引入材料表面,增強(qiáng)材料表面的活性位點(diǎn),提升材料的表面能,實(shí)現(xiàn)材料的表面活化。
 

低溫等離子體表面處理儀工作流程:


設(shè)定低溫等離子體處理儀參數(shù)→樣品放入處理腔正極板上→打開(kāi)真空泵→待真空度降至100Pa以下→開(kāi)啟放電電源→處理完畢取出樣品

低溫等離子體表面處理儀真空室處理腔原理圖如圖1.1所示
 低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖
圖1.1 低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖

 

低溫等離子體表面處理原理:


等離子體改性高分子材料時(shí),主要是其中的活性粒子起作用。這些活性粒子在高分子材料表面產(chǎn)生許多復(fù)雜的作用,包括刻蝕、交聯(lián)、表面刻蝕、產(chǎn)生自由基、引入極性基團(tuán)等。

極性基團(tuán)的引入
在等離子體表面處理時(shí),高分子表面會(huì)形成大量自由基,與大氣中的氧接觸后則會(huì)發(fā)生氧化作用,形成親水性的基團(tuán)。如羥基、羧基等,會(huì)使材料的親水性、粘結(jié)性得到改善,同時(shí)通過(guò)等離子體表面處理之后,聚合物表面的元素含量比例會(huì)發(fā)生比較明顯的變化。

等離子處理后還可以在聚合物表面引入各種極性基團(tuán),如NH3等離子體或N2和O2混合等離子體可以在高分子表面引入胺基、亞胺基或腈基等。

表面交聯(lián)
等離子體轟擊聚合物表面,可使聚合物表面產(chǎn)生自由基,正負(fù)電子,穩(wěn)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)的原子。其中電子、原子、自由基攻擊聚合物表面而移除聚合物表面的H原子而形成活性網(wǎng)點(diǎn),聚合物表面的自由基活性點(diǎn)相互反應(yīng)而形成表面交聯(lián)。

表面刻蝕
在等離子體處理過(guò)程中,等離子體中的活性粒子會(huì)高速撞擊到材料的表面,并造成刻蝕作用,使材料表面變得凹凸不平,增加材料表面的粗糙度。刻蝕主要分為兩種,物理濺射和化學(xué)刻蝕。

低溫等離子體表面處理儀屬于干式處理設(shè)備,沒(méi)有化學(xué)改性中的烘干、廢水處理等工序,具有工藝簡(jiǎn)單、節(jié)約能源、綠色無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。更重要的是,等離子體處理僅僅涉及材料淺表面,作用深度在納米級(jí)別,一般不會(huì)影響材料本身的整體性能。

型號(hào) NE-PE10F低溫等離子體表面處理儀
射頻電源 13.56MHz
功率 0-300W可調(diào)
真空度 <30Pa
工藝氣體通道 兩路(標(biāo)配,可定制多路)
腔體尺寸 長(zhǎng)230mm×高175mm×深270mm
腔體材質(zhì) 不銹鋼
外形尺寸 長(zhǎng)600mm×寬530mm×高574mm

15700106413
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