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蔡司Crossbeam聚焦離子束掃描電子顯微鏡

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱昆山友碩新材料有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/1/16 8:57:57
  • 訪問次數(shù)483
產品標簽:

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蔡司工業(yè)測量是三坐標測量生產商,是三坐標測量技術的提供商,致力于為工業(yè)制造領域及測量實驗室的多方測量需要提供精良的測星解決方案。產品包含了通用的橋式測量機、懸臂式測量機、在線測星機,以及測星前沿技術的多功能工業(yè)CT測量機、復合式測星和納米級測星機。蔡司不僅在測量技術的科研上取得了矚目的成就,其所有的主要部件,如控制柜、軟件、傳感器、探針等均為蔡司研發(fā)生產,確保了產品高品質和高性能的傳承。蔡司工業(yè)測星在擁有三個生產基地,其中中國上海所生產的產品主要供應東南亞市場。主要在汽車模具及零配件,各種模具五金塑膠件和框架等領域提供尺寸測量、比對、逆向工、,激光掃描等解決方案。目前擁有三分之一的。蔡司工業(yè)測量技術都是生產和供應多方測星實驗室、數(shù)控三坐標測量機和完善解決方案的提供者。在四個國家的生產基地和100多個銷售和服務點,約2400名員工。
蔡司Crossbeam系列的FIB-SEM結合了場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無論是在科研或是工業(yè)
蔡司Crossbeam聚焦離子束掃描電子顯微鏡 產品信息

商品詳情

     蔡司Crossbeam系列的FIB-SEM結合了場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無論是在科研或是工業(yè)實驗室,您都可以在一臺設備上實現(xiàn)多用戶同時操作。得益于蔡司Crossbeam系列模塊化的平臺設計理念,您可以根據(jù)自己需求的變化隨時升級儀器系統(tǒng)。在加工、成像或是實現(xiàn)三維重構分析時,Crosssbeam系列都將大大提升您的應用體驗。

  使用Gemini電子光學系統(tǒng),您可以從高分辨率SEM圖像中提取真實樣本信息

  使用新的Ion-sculptor FIB鏡筒以及全新的樣品處理方式,您可以大限度地提高樣品質量、降低樣品損傷,同時大大加快實驗操作過程

  使用Ion-sculptor FIB的低電壓功能,您可以制備超薄的TEM樣品,同時將非晶化損傷降到非常低

  使用Crossbeam 340的可變氣壓功能

  或使用Crossbeam 550實現(xiàn)更苛刻的表征,大倉室甚至為您提供更多選擇

  EM樣品制備流程

  按照以下步驟,高效率、高質量地完成制樣

  Crossbeam 為制備超薄、高質量的TEM樣品提供了一整套解決方案,您可以高效地準備樣品,并在TEM或STEM上實現(xiàn)透射成像模式的分析。

 

  1.自動定位——感興趣的區(qū)域(ROI)輕松導航

  您可以不費功夫地找到感興趣的區(qū)域(ROI)

  使用樣品交換室的導航相機對樣品進行定位

  集成的用戶界面使得您可以輕松定位到ROI

  在SEM上獲得寬視野、無畸變的圖像


 

  2. 自動制樣——從體材料開始制備薄片樣品

  您可以通過簡單的三個步驟制備樣品:ASP(自動樣品制備)

  定義參數(shù)包括漂移修正,表面沉積以及粗切、精細切割

  FIB鏡筒的離子光學系統(tǒng)保證了工作流程具有的通量

  將參數(shù)導出為副本,進而可以重復操作實現(xiàn)批量制備

 

  3. 輕松轉移——樣品切割、轉移機械化

  導入機械手,將薄片樣品焊接在機械手的針尖上

  將薄片樣品與樣品基體連接部分進行切割,使其分離

  薄片隨后會被提取并轉移到TEM柵網上

 

  4. 樣品減薄——獲取高質量TEM樣品至關重要的一步

  儀器在設計上允許用戶實時監(jiān)控樣品厚度,并最終達到所需求的目標厚度

  您可以同時通過收集兩個探測器的信號判斷薄片厚度,一方面可以通過SE探測器以高重復性獲取最終厚度,另一方面可以通過Inlens SE 探測器控制表面質量

  制備高質量的樣品,并將非晶化損傷降到可以忽略的地步

  蔡司 Crossbeam 340 蔡司 Crossbeam 550
掃描電子束系統(tǒng) Gemini I VP 鏡筒

Gemini II鏡筒

可選Tandem decel

樣品倉尺寸和接口 標準樣品倉有18個擴展接口 標準樣品倉有18個擴展接口或者加大樣品倉有22個擴展接口
樣品臺 X/Y方向行程均為100mm X/Y方向行程:標準樣品倉100mm加大樣品倉153 mm 
荷電控制

荷電中和電子槍

局域電荷中和器

可變氣壓

荷電中和電子槍

局域電荷中和器

 

可選選項

Inlens Duo探測器可依次獲取SE/EsB圖像

VPSE探測器

Inlens SE 和 Inlens EsB可同時獲取SE和ESB成像

大尺寸預真空室可傳輸8英寸晶元

注意加大樣品倉可同時安裝3支壓縮空氣驅動的附件。例如 STEM, 4分割背散射 探測器和局域電荷中和器

特點 由于采用了可變氣壓模式,從而具有更大范圍的樣品兼容性,適用于各類原位實驗,可依次獲取SE/EsB圖像 高效的分析和成像,在各種條件下保持高分辨特性,同時獲取Inlens SE和Inlens ESB圖像
    *SE 二次電子,EsB 能量選擇背散射電子
15168338725
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