設備介紹
離子減薄儀(Precision Ion Polishing System ),為整套TEM樣品制備的道工序,經氬離子減薄的樣品可在TEM 下直接觀察,入射角可以從10°至-10°,制樣速度快,能夠以最小的耗費制備出高質量的TEM樣品;儀器操作方便快捷;配備了低能量離子槍功能,尤其適合對能量敏感性樣品的減薄。
儀器型號
美國 GATAN Gatan691
技術參數
- 光束直徑5keV 下350μm
- 離子電流密度 10mA/cm2
- 樣品尺寸3mm或2.3mm
- 減薄角度+10° 到 -10°
- 離子束能量100eV 到6.0 KeV
案例展示
應用范圍
離子減薄儀(Precision Ion Polishing System ),主要用于陶瓷、半導體、金屬和合金等多種材料的透射電子顯微鏡樣品的制備。