1、高真空系統(tǒng)由雙級(jí)旋片真空泵和分子泵組成,真空可達(dá)0.0001Pa;
2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制;
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì),流量顯示儀等組成,實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;管路采用世界Swagelok卡套連接,不漏氣;
5、超溫、過壓時(shí),自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣,使用安全可靠。
產(chǎn)品用途:
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長(zhǎng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)
- 電壓:AC220V 50/60Hz
- 功率:6KW
- 爐管:采用99氧化鋁剛玉管,致密度高,經(jīng)久耐用,不易斷裂
- 爐管尺寸:Φ40/60/80*/1000mm(可定制)
- 爐管配件:4個(gè)氧化鋁管堵
- 加熱元件:6根U型硅鉬棒
- 加熱區(qū)長(zhǎng)度:400mm(可定制)
- 恒溫區(qū)長(zhǎng)度:200mm(可定制)
- 工作溫度:≤1600℃
- 溫度:1650℃
- 升溫速率:≤10℃/min
- 溫控系統(tǒng):溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、50段升降溫程序
- 測(cè)溫元件:B型雙鉑銠熱電偶
- 恒溫精度:±1℃
- 流量規(guī)格:0.3~3L/min
- 控制精度:±5%
- 極限真空:6.0×10-5Pa
- 工作真空:7.6×10-4Pa
- 測(cè)溫元件:B型雙鉑銠熱電偶
- 尺寸:高溫爐:660*580*910mm、混氣移動(dòng)工作臺(tái):800*540*720mm
- 可選配件:HQZ混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng),各種剛玉坩堝,剛玉管,計(jì)算機(jī)控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環(huán)機(jī)等。