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小型等離子清洗機(jī)TS-PL10

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)TS-PL10
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/4/3 10:40:25
  • 訪問次數(shù)293
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深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國(guó)早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國(guó)家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動(dòng)化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動(dòng)化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級(jí)研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)對(duì)等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國(guó)等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機(jī)構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場(chǎng)實(shí)踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動(dòng)了我國(guó)低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強(qiáng)大研發(fā)實(shí)力,東信高科已成功申請(qǐng)多項(xiàng)技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級(jí)換代,公司先后與富士康公司、美國(guó)AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國(guó)兵器集團(tuán)、、中國(guó)、、東南大學(xué)光電實(shí)驗(yàn)室、藍(lán)思科技、長(zhǎng)方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機(jī)、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國(guó)顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠(chéng)信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營(yíng)理念,立足中國(guó),面向,打造的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
小型等離子清洗機(jī)TS-PL10
小型等離子清洗機(jī)TS-PL10 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

名稱

小型真空等離子清洗機(jī)

型號(hào)

TS-PL10

外形尺寸(W×H×D)

660×700×600mm

反應(yīng)腔尺寸

200×200×270mm

反應(yīng)腔容量

10L

反應(yīng)腔體材料

進(jìn)口316不銹鋼

真空泵

進(jìn)口4L/S

角閥

北儀超真空40KF

射頻電源

東信40KHZ

PLC系統(tǒng)

松下

電氣系統(tǒng)

施耐德

觸摸屏

松下4.3寸 顯控

陶瓷封裝

進(jìn)口高頻陶瓷

處理氣體

O2、Ar2、N2,H2、CF4

輸出功率

0-600W可調(diào)

小型真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):

1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過程是氣-?固相干式反應(yīng)?,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

2.廣適性:不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理;

3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強(qiáng):僅涉及高分子材料淺表面(10?-1000A?),可在保持材料自身特性的同時(shí),賦予其一種或多種新的功能;

5.低成本:裝置簡(jiǎn)單,易操作維修,可連續(xù)運(yùn)行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6.全過程可控工藝:所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,進(jìn)行質(zhì)量控制。

7.處理物幾何形狀無(wú)限制:大或小,簡(jiǎn)單或復(fù)雜,部件或紡織品,均可處理。

小型真空等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于

等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

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