CX-9000臺式金屬分析儀是我公司引進歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前的的第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩(wěn)定性好、檢測限 低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
主要特點:- 全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
- 分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃及標線,使儀器用短的達到優(yōu)的分析效果;
- 光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性;
- 特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;
- 自動光路校準,光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定;
- 開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
- 工作曲線采用標樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;
- HEPS固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
- 固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性;
- 銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;
- 合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
- 采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
- 高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;
- 儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
- 核心器件,保證了儀器的品質(zhì)。
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動控制恒溫:35℃±℃ |
波長范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 2160 l/mm |
光譜線色散率 | nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺 | |
氣體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min, 待機時:無須待機流量 |
電極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹掃 | 點擊自吹掃功能 |
補償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 | |
類型 | HEPS固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
預(yù)燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析時大700W,待機狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |