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JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京同林科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)
  • 更新時(shí)間2023/4/10 15:28:18
  • 訪問次數(shù)225
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臭氧發(fā)生器
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī) Model 42 型號:Model 42 品牌:美國 臭氧濃度: 臭氧產(chǎn)量: 使用氣源: ......
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī) 產(chǎn)品信息
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)
紫外臭氧清洗機(jī)
簡介
UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程,其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解,臭氧經(jīng)253.7nm分解,同時(shí)生成原子氧。
253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷铡N廴疚锓肿拥倪@種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng),形成更簡單的揮發(fā)性分子,從表面解吸。因此,當(dāng)兩種波長同時(shí)存在時(shí),原子氧不斷產(chǎn)生,臭氧不斷形成和破壞。
通過將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi),例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈,可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外,該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。
ufo - cleaner®是去除硅,砷化鎵,石英,藍(lán)寶石,玻璃,云母,陶瓷,金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的,的方法。它的建造壽命長,維護(hù)成本低,服務(wù)。
應(yīng)用程序:
•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底
•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗
•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗
•蝕刻Teflon®,Viton®和其他有機(jī)材料
•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面
•減少玻璃的放氣
去除晶圓膠帶
•提高涂料對塑料的附著力
•測試后從晶圓上去除油墨
•剝離光刻膠
•從光刻板中去除潛在圖像
•清洗光刻版
•在硅片上生長氧化層
•在包裝/粘合前清洗電路板
•增加表面親水特性
•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌
•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡
紫外清洗優(yōu)點(diǎn)
1. 被清洗的表面除了光子,不與任何物體發(fā)生接觸,有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后,生成可揮發(fā)性氣體 (CO2、CO、H2O) 等從表面消散,隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。
2. 表面潔凈度高,且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷,由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小,光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
4. 光清洗對物體表面微細(xì)部位(如孔穴、微細(xì)溝槽等)具有有效而的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線,能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位,發(fā)生光敏氧化反應(yīng),充分表現(xiàn)出光清洗的性。
可選設(shè)備:
所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件,無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧,而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。
單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制??赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。
設(shè)備提供以下電源配置:
120V/60Hz 220V/50Hz
220V/60Hz
100V 50/60Hz
**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。

Outer Dimensions
Length Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)
350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm

Tray Dimensions
Width Length Height (Adjustment Range)
165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm

Grid Lamp
Type Average Intensity Distance Measured Away From Lamp
Low Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]

Electrical Characteristics
Output Power
Voltage Current
6000 Vpeak-peak 30 mA

Available Input Power Requirements
Model Voltage Frequency Current
42 120 VAC 60 Hz 2.0 A
42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A
42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A
42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A
42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
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Q:超聲臭氧強(qiáng)化處理高濃度有機(jī)廢水研究
A:超聲臭氧強(qiáng)化處理高濃度有機(jī)廢水研究 本文主要研究了超聲臭氧處理高濃度有機(jī)廢水的可行性;
Q:高效臭氧溶氣裝置介紹
A:高效臭氧溶氣裝置 一) 、臭氧溶解效率 臭氧溶解效率(O3)=臭氧溶解量/臭氧投加量,是影響;
Q:臭氧發(fā)生器進(jìn)氣(空氣或氧氣)流量測量單位
A:臭氧發(fā)生器進(jìn)氣(空氣或氧氣)流量測量單位 LPM=升每分鐘 通過臭氧發(fā)生器的原料氣流量的計(jì)量測;
Q:臭氧濃度單位有哪些
A:臭氧濃度單位有哪些 臭氧濃度單位有哪些,有什么區(qū)別呢? wt% =重量百分比 指在給定體積中臭;
Q:高級氧化技術(shù)應(yīng)用范圍
A:高級氧化技術(shù)應(yīng)用范圍 現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展,導(dǎo)致進(jìn)入水體中的有機(jī)物數(shù)量和種類急劇增加,水體;
Q:OXYCYCLE™氧氣回收裝置介紹
A:OXYCYCLE氧氣回收裝置介紹 使臭氧生產(chǎn)達(dá)到新的效率水平。 當(dāng)你能回收氧氣時(shí),為什么要浪費(fèi);
Q:廢水臭氧氧化處理法用途和優(yōu)缺點(diǎn)
A:臭氧氧化法主要用于: ①水的消毒:臭氧是一種廣譜速效殺菌劑,對各種致病菌及抵抗力較強(qiáng);
Q:臭氧氧化法發(fā)生器濃度、產(chǎn)量、電耗測量
A:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了臭氧氧化法發(fā)生器的臭氧濃度,產(chǎn)量和電耗的測定及計(jì)算方法。并且適用于以電;
Q:評價(jià)臭氧氧化對的效價(jià)削減效果研究
A:評價(jià)臭氧氧化對的效價(jià)削減效果研究 中國是世界上大的抗生素生產(chǎn)國,是、四;
Q:臭氧氧化印染工業(yè)園廢水影響因素研究
A:臭氧氧化印染工業(yè)園廢水影響因素研究 印染廢水具有污染物成分復(fù)雜、高色度、高濁度、高;
Q:不同晶體結(jié)構(gòu)二氧化錳上氣態(tài)臭氧的催化分解
A:臭氧是一種普遍存在的污染物,二氧化錳(MnO2)被廣泛用于臭氧的分解。然而,二氧化錳結(jié)構(gòu)對;
Q:臭氧與過氧化鈣(O3/CaO2)降解甲基紅染料廢水研究
A:紡織品印染廢水排放量大,組成復(fù)雜,污染物濃度高,其中含有大量結(jié)構(gòu)復(fù)雜的染料和化合物[1].色;
Q:影響臭氧水浸泡法去除農(nóng)殘效果的因素
A:影響臭氧水浸泡法去除農(nóng)殘效果的因素 4.2.1 臭氧水濃度 一般來說臭氧水濃度增大可以增大農(nóng)藥;
Q:多相臭氧催化氧化對某染料廢水生化出水效果實(shí)驗(yàn)研究
A:多相臭氧催化氧化對某染料廢水生化出水效果實(shí)驗(yàn)研究 染料廢水成分復(fù)雜,含多種難降解有機(jī)物;
Q:臭氧與多種煙氣污染物的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)機(jī)理研究
A:臭氧與多種煙氣污染物的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)機(jī)理研究 邵嘉銘1,王智化1,林法偉2,唐海榮1,許巖韋;
Q:臭氧投加速率對苯胺降解的影響
A:臭氧投加速率對苯胺降解的影響 廢水中含有苯胺,且其質(zhì)量濃度為25,mg/L 左右,為保證其排放;
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