產(chǎn)品簡介：VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 |
| 主要特點 | 1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 |
| 技術參數(shù) | 1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數(shù)量：2 3、靶槍冷卻方式：水冷 4、極限真空度：7.4E-5pa 5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm 6、真空系統(tǒng)：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 7、恢復真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時間暴露大氣） 8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 9、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 10、樣品臺：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃） |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm |
