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上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 實驗室儀器設(shè)備

參考價 480000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱伯東企業(yè)(上海)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時間2023/5/10 9:48:56
  • 訪問次數(shù)194
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上海伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口的*代理商.

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原子力顯微鏡,霍爾效應(yīng)測量儀,質(zhì)譜分析儀,檢漏儀
產(chǎn)地 進口
上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積.
上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 實驗室儀器設(shè)備 產(chǎn)品信息
考夫曼離子源 KDC 40

KRI 考夫曼離子源 KDC 40
上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術(shù)參數(shù)

型號

KDC 40

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

1

 - 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對準

 -柵極直徑

4 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1202

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

 - 架構(gòu)

移動或快速法蘭

 - 高度

6.75'

 - 直徑

3.5'

 - 離子束

集中
平行
散設(shè)

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

6-18”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架


KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

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上海伯東: 羅先生

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