半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、Ω.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
工藝簡介
電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。
工藝流程
產(chǎn)品特點
電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
主要應(yīng)用
1、大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按有關(guān)用水標準(GB/)執(zhí)行。
2、電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同，其用水標準中(即GB/)有可為四級(一級電導(dǎo)率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為O-CM)。
技術(shù)特征
1、制取電子級超純水；
2、可連續(xù)自動生產(chǎn)，不必停機再生；
3、出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法；
4、不需酸堿再生，不污染環(huán)境；
5、運行成本低，占地面積??；
應(yīng)用范圍
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品。
進水標準
| 通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水。 | TEA(總可交換陰離子，以CaCO3計)： |
| 電導(dǎo)率： | 溫度： 5～35℃。 |
| 有機物( TOC)： | 氧化劑：Cl2 |
| 變價金屬： Fe | H2S： |
| 二氧化硅： | 色度： |
| 二氧化碳的總量： | SDI 15min： |
| 進水壓力： | 硬度：(以CaCO3計)： |
| PH：～。當(dāng)總硬度低于時，EDI工作的pH范圍為～。 | |
出水標準
中國電子行業(yè)超純水 標準GB/
實驗室用水標準GB6682-92
美國半導(dǎo)體工業(yè) 用純水 指標
美國試驗級用水標準(ASTM/NCCLS)
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