德國Diener PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
該P(yáng)ECVD系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
主要技術(shù)參數(shù):
PC控制軟件
RF發(fā)生器 0~3000W 脈沖模式
腔體防腐處理,400*400*1500mm,240L
腔體加熱80℃
帶觀察窗
多路工藝氣體通道,MFC控制 防腐處理
HMDSO單體通道
易燃易爆氣體安全閥
Gas Shower氣浴電極
設(shè)備外尺寸2000*600*1700mm
進(jìn)口真空泵組
電壓 3項(xiàng)400V