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GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱沈陽科晶自動化設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地沈陽市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/30 20:26:57
  • 訪問次數(shù)198
產品標簽:

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沈陽科晶自動化設備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設備潮流為目標的發(fā)展歷程。時至今日,已經擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結、分析等領域以及相關耗材的上百種產品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復合材料、生物材料等制備分析的全套需要?! ∩蜿柨凭Я⒆銍鴥仁袌鰧嶋H情況,以提供實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國?! ∩蜿柨凭б恢敝铝τ诟叩仍盒!⒀芯克?、生產企業(yè)的科研服務,即產品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務關系。其中北京大學、清華大學、浙江大學、哈爾濱工業(yè)大學、東北大學等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學地質與地球物理研究所等科研機構,中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽客戶。  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導與售后服務。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標?! ∩蜿柨凭б宦纷哌^的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍
GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍 產品信息

產品簡介:用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作及清理方便的優(yōu)點,還具有蒸鍍速率快,電子束定位準確能量密度高,可以避免坩堝材料的污染等特點。

 

產品型號

GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機,水溫小于25℃,水壓0.25-0.4Mpa,流量高于12 l/min(加注純凈水或者去離子水);

2、電:AC380V 50Hz,功率大于10KW,波動范圍:小于±6,必須有良好接地(對地電阻小于2Ω);

3、氣:設備腔室內需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備氮/氬氣氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、場地面積設備尺寸2000mm×2000mm,承重1000kg以上

5、通風裝置:需要(外排廢氣管道);

主要特點

1、由于電子束定位準確能量很高,可蒸發(fā)難熔金屬或化合物,蒸發(fā)速率快;

2、體積小,操作簡便可以非常容易的放置材料和清理;

3、蒸發(fā)材料放置在水冷銅坩堝中,可避免坩堝材料的污染,制備高純薄膜;

4、由于蒸發(fā)物面積小,因而熱輻射損失小,熱效率高;

技術參數(shù)

1、極限真空度:≤6.67x10-5 Pa (經烘烤除氣后);

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,45分鐘可達到6.6x10-4 Pa;

基片參數(shù)

1、基片尺寸:可放置φ4″基片(帶手動擋板)

2、基片加熱溫度 800℃±1℃,由熱電偶閉環(huán)反饋控制;

3、基片可連續(xù)回轉,轉速5~60轉/分;

4、基片與蒸發(fā)源之間距離300350mm可調;

電子束蒸發(fā)源參數(shù)

1、E型電子槍,陽極電壓6KV、8KV;
2、電子槍坩堝:水冷銅坩堝,四穴設計,每個熔煉11ml 
3、電子束功率0-6KW可調;

真空腔體

1、U型真空室尺寸Ф500X600mm,選用優(yōu)質不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進行特殊工藝拋光處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;

2、真空腔體前開門鉸鏈結構,方便取、放樣品;

3、前開門設有兩個觀察窗接口,可以觀察電子槍和基片;

4、設備預留膜厚儀接口,可選配膜厚儀;

5、高真空分子泵機組,閘板閥隔斷(也可使用高真空擋板閥);

產品規(guī)格

整機尺寸:1800mm×1200mm×2000mm;

標準配件

1

電源控制系統(tǒng)

1

2

真空獲得機組

1

3

真空測量

1

4

電子槍

1套

15700106413
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