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高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地沈陽市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/6/30 21:19:39
  • 訪問次數(shù)185
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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要?! ∩蜿柨凭Я⒆銍鴥?nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國?! ∩蜿柨凭б恢敝铝τ诟叩仍盒?、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構(gòu)、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構(gòu),中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽客戶?! ∩蜿柨凭榱烁玫胤?wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)?! ∩蜿柨凭б宦纷哌^的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)
高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡介:高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、 半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

產(chǎn)品型號

高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

主要特點

系統(tǒng)主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、上蓋液壓開啟機構(gòu)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)參數(shù)

1、極限真空度5×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S; 恢復(fù)真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa(短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣)
2、真空室:圓形真空室,尺寸300× 350mm
3、樣品臺:尺寸為3英寸×3英寸,厚度3.2mm的平面樣品;
4、金屬電極:數(shù)量:1支,標(biāo)準(zhǔn)型釬焊間接水冷結(jié)構(gòu);直徑Φ20㎜,內(nèi)水冷;
5、有機束源爐:數(shù)量:3支,標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫,向上蒸發(fā)成膜;
6、樣品架:在基片轉(zhuǎn)盤上有1個基片位置放置樣品托(樣品托可以分別放置2英寸)孔安裝加熱爐。為了在2英寸基片臺范圍內(nèi)提高膜厚均勻性,基片在鍍膜位置實現(xiàn)自轉(zhuǎn)?;臏囟葟氖覝刂?00℃(硅片上表面的溫度,只需標(biāo)定一次即可);
7、4套擋板系統(tǒng):基片擋板與源擋板;靶擋板共有3套,動密封手動控制; 樣品擋板(1套),磁力撥叉
8、手動控制 氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999Å 可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

標(biāo)準(zhǔn)配件

 

可選配件

 

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