產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 該系統(tǒng)為球形脈沖激光淀積系統(tǒng)(PLD)工藝研發(fā)設(shè)備。脈沖激光沉積 (Pulsed laser deposition, PLD),就是將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離,使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng),進(jìn)而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛,可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜,甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。
產(chǎn)品名稱 | 球形脈沖激光淀積系統(tǒng)(PLD) |
安裝條件 | 1、環(huán)境溫度:10℃~35℃ 2、相對(duì)濕度:不大于75% 3、供 水:水壓0.2MPa~0.4MPa,水溫15℃~25℃ 4、設(shè)備周圍環(huán)境整潔,空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、系統(tǒng)采用真空室為球形結(jié)構(gòu),手動(dòng)前開(kāi)門 |