SD-900型離子濺射儀是采用二級(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的離子濺射鍍膜設(shè)備。二極(DC)直流濺射是一種、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜技術(shù),是許多廠商提供的離子濺射儀的基礎(chǔ)。
V技術(shù)規(guī)格說明
樣品倉尺寸 | φ150mm h120mm |
樣品臺 | 可放置1 2 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品座,高度可在 |
上部電極 | 靶直徑5 0 mm,厚度0 .1mm |
濺射控制 | 電流5 0mA |
濺射面積 | φ5 0mm |
真空度 | ≤4×10-2mbar |
靶材 | 金靶、銀靶、 鉑靶 |
濺射速率 | 優(yōu)于5nm/min (金靶) |
工作電壓 | 220V, 50HZ |
輸出電壓 | -1600V |