真空石英腔體通常用于制造高真空環(huán)境下的實驗室設備和工業(yè)設備。這些設備包括：

 科研實驗室真空石英腔體

1. 惰性氣體保護焊接設備：惰性氣體保護焊接是一種用于保護焊件不被氧化的焊接方法，常用于在高真空或惰性氣體環(huán)境下進行。

 科研實驗室真空石英腔體

2. 電子束物理氣相沉積設備：這種設備使用電子束來蒸發(fā)和沉積金屬薄膜或其他材料，通常在高真空環(huán)境下進行，以便控制沉積過程和減少污染物。

3. 分子束外延設備：這種設備使用分子束在高真空環(huán)境下外延生長單晶薄膜，通常用于制造半導體器件和其他電子設備。

4. 離子束蝕刻設備：這種設備使用離子束來蝕刻材料表面，通常用于制造微電子器件、光子學器件和傳感器等高精度設備。

除了以上應用，真空石英腔體還可以用于制造太陽能電池、光學儀器和研究天體物理學等領域。

真空腔體（Vacuum chamber）是一種密封的容器，內(nèi)部的氣壓遠低于大氣壓。它被廣泛應用于以下領域：

1. 材料處理與制備：例如薄膜沉積，這是一種將材料沉積在基板上的過程，需要在高度真空環(huán)境下進行以確保高純度和高質量的沉積物。

2. 真空測試：某些儀器和設備需要在低氣壓條件下進行性能和耐久性測試，例如太空器設備。

3. 半導體制程：真空對處理硅片和其他半導體材料至關重要，因為在高度真空環(huán)境下，避免了氧氣及其他化學反應物的產(chǎn)生。

4. 研究和實驗：很多物理和化學實驗需要在真空條件下進行，例如基本粒子物理實驗、低溫物理學、電子顯微鏡等。

5. 熱真空試驗：用于模擬太空中的低壓和低氣氛條件，對航天器進行實際工作環(huán)境的模擬試驗。

6. 吸氣設備：例如，真空泵將氣體從腔體中抽出，產(chǎn)生真空，可用于工業(yè)生產(chǎn)、實驗室研究等。

7. 真空包裝：這種包裝形式可以降低被包裝物品與空氣的接觸，有助于延長食品保質期，防潮和防霉等。

8. 蒸發(fā)和密封：真空腔體可以用于化工行業(yè)，實現(xiàn)高效蒸發(fā)和密封過程。

等離子體石英腔是一種石英材料制成的封閉腔室，內(nèi)部常常充滿等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體，由帶正電荷的離子和帶負電荷的電子組成，具有導電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術以及材料表面改性等領域。

等離子體石英腔可以有效地將等離子體與外界隔離，從而提高等離子體的純度和密度，同時保護外部設備不受等離子體的影響。例如，在半導體制造過程中，石英腔可以通過對氣體進行高頻電場激勵來產(chǎn)生等離子體，用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外，石英腔還能保持良好的熱穩(wěn)定性和耐腐蝕性，使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環(huán)境下，長期運行。

電感耦合等離子（Inductively Coupled Plasma，ICP）和電容耦合等離子（Capacitively Coupled Plasma，CCP）是兩種廣泛用于實驗室中的等離子體源。它們的主要區(qū)別在于它們產(chǎn)生等離子體的機制和特點。

ICP是在高整流器運作的RF（射頻）電源提供的高頻RF（常見頻率是27.12 MHz）的作用下工作的，而這個RF電源將產(chǎn)生的高頻電場通過感應耦合傳送到氣體放電管（都柏林管）內(nèi)。這種電場產(chǎn)生了交變電壓，導致氣體分子發(fā)生電離，產(chǎn)生了等離子體。ICP的優(yōu)點在于它可以產(chǎn)生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度，并用于產(chǎn)生高靈敏度的熒光譜檢測。

另一方面，CCP是通過直接應用高頻電場在帶電片和反電極之間產(chǎn)生的交變電場來產(chǎn)生等離子體的。這種電場使電極表面產(chǎn)生周期性的荷電狀態(tài)變化，從而促進了等離子體的生成。CCP的優(yōu)點是其低能耗和簡單的結構，但它通常只能產(chǎn)生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體，因此在熒光譜檢測方面使用較少。

因此，這兩種等離子體產(chǎn)生技術在實驗室中都得到廣泛應用，并根據(jù)所需的特定應用和實驗室條件進行選擇。

技術規(guī)格參數(shù)：

腔體材質：鋁合金+石英玻璃

腔體尺寸：內(nèi)徑110mmx深度220MM

腔體容積：2.5L

腔體觀察窗：內(nèi)徑φ35   石英玻璃

腔體抽氣口：KF16

腔體進氣口：6MM卡套

腔體真空度：機械泵小于等于0.5Pa