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殘余應(yīng)力測試儀器

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱南通中旭電子有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/9/1 18:15:38
  • 訪問次數(shù)174
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南通中旭電子有限公司位于長江之濱,是一家專業(yè)從事無損檢測設(shè)備設(shè)計、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)的高科技企業(yè)。公司成立以來,已成功開發(fā)出全數(shù)字超聲波探傷儀、超聲波測厚儀、硬度計、磁粉探傷系統(tǒng)等無損檢測產(chǎn)品。同時代理國內(nèi)外公司無損檢測及理化檢驗設(shè)備(平板探測器,X射線DR數(shù)字成像系統(tǒng)、殘余應(yīng)力測試系統(tǒng)、、全譜火花直讀光譜儀、手持式熒光光譜儀、拉曼光譜儀,X射線熒光光譜儀,傅里葉紅外光譜儀,可視化超聲波檢漏儀,露點儀,氣體流量計,壓縮空氣質(zhì)量檢測儀,激光清洗打標(biāo)機(jī)等)為中國地區(qū)各領(lǐng)域客戶提供進(jìn)口理化高精度分析儀器、檢測儀器、計量設(shè)備、實驗室設(shè)備及配套的耗材和配件 2018年成為韓國ATLAIM&PIXXGEN工業(yè)平板探測器中國代理商。 2021年成為德國CS instruments全系產(chǎn)品(流量計,露點儀,圖表記錄儀,空氣質(zhì)量檢測儀,超聲波檢漏儀等)中國代理商。自動對焦激光清洗機(jī),激光清洗打標(biāo)二合一,標(biāo)準(zhǔn)型激光清洗生產(chǎn)廠家 公司所有員工都是從業(yè)十多年的專業(yè)人士,豐富的經(jīng)驗為產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷售奠定了基礎(chǔ)。目前,中旭在全國有20多個集銷售、服務(wù)于一體的分銷商。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用於航天航空、鍋爐壓力容器、汽車船舶、電力、石化、鋼鐵、鐵路、建筑等行業(yè),以、穩(wěn)定性高、技術(shù)服務(wù)精準(zhǔn)贏得了客戶的好評與信賴。
X射線是表面殘余應(yīng)力測定技術(shù)中為數(shù)不多的無損檢測法之一,是根據(jù)材料或制品晶面間距的變化測定應(yīng)力的,至今仍然是研究得廣泛、深入、成熟的內(nèi)應(yīng)力測量方法之一,被廣泛的應(yīng)用于科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)的各領(lǐng)域
殘余應(yīng)力測試儀器 產(chǎn)品信息


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X射線是表面殘余應(yīng)力測定技術(shù)中為數(shù)不多的無損檢測法之一,是根據(jù)材料或制品晶面間距的變化測定應(yīng)力的,至今仍然是研究得廣泛、深入、成熟的內(nèi)應(yīng)力測量方法之一,被廣泛的應(yīng)用于科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)的各領(lǐng)域。然而長期以來,大家使用的都是基于一維探測器的測量方法。2012年日本Pulstec公司開發(fā)出世界基于全二維探測器技術(shù)的新一代X射線殘余應(yīng)力分析儀——μ-X360n,將利用X射線研究殘余應(yīng)力的測量速度和精度推到了一個全新的高度,設(shè)備推出不久便得到業(yè)界的廣泛好評。

相較于傳統(tǒng)的X射線殘余應(yīng)力測定儀,新一代μ-X360n便攜式X射線殘余應(yīng)力分析儀具有以下優(yōu)點:

更快:二維探測器一次性采集獲取完整德拜環(huán),單角度一次入射即可完成測量,全過程平均約90秒。

更精確:一次測量可獲得500個數(shù)據(jù)點進(jìn)行殘余應(yīng)力數(shù)據(jù)擬合,結(jié)果更精確。

更輕松:無需測角儀,單角度一次入射即可,復(fù)雜形狀和狹窄空間的測量不再困難。

更方便:測量精度高,無需冷卻水,野外工作無需外部供電。

更強(qiáng)大:具備區(qū)域應(yīng)力分布測量成像(Mapping)功能,晶粒大小、材料織構(gòu)、殘余奧氏體分析等功能。

傳統(tǒng)點/線探測器和全二維面探測器原理對比:


傳統(tǒng)的點/線探測器技術(shù)

全二維面探測器技術(shù)

——通過測量應(yīng)力引起的衍射角偏移,從而算出應(yīng)力大小。測量時需要多次(一般5-7次)改變X射線的入射角,并且調(diào)整一維探測器的位置找到相應(yīng)入射角的衍射角
——施加應(yīng)力后,通過測角儀得到衍射角發(fā)生變化的角度,從而計算得到應(yīng)力數(shù)據(jù)

——單角度一次入射后,利用二維探測器獲得完整德拜環(huán)。通過比較沒有應(yīng)力時的德拜環(huán)和有應(yīng)力狀態(tài)下的變形德拜環(huán)的差別來計算應(yīng)力下晶面間距的變化以及對應(yīng)的應(yīng)力
——施加應(yīng)力后,分析單次入射前后德拜環(huán)的變化,即可獲得全部殘余應(yīng)力信息


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