使用超純水設(shè)備的好處
產(chǎn)品特點：
1.去除懸浮顆粒和沉淀 2.除去溶解性離子 3.去除氣體 4.防止膜堵塞，保護RO膜 5.可降低能耗，節(jié)約資源
超濾系統(tǒng)：據(jù)原水水質(zhì)、回收率及產(chǎn)水量等因素確定膜組件的組合方式
產(chǎn)品特點：
1.去除溶解性離子 2.去除微生物和病毒 3.提高水質(zhì) 4.保障產(chǎn)水的穩(wěn)定性 5.降低企業(yè)生產(chǎn)成本
產(chǎn)品特點：
EDI的作用就是通過除去電解質(zhì)(包括弱電解質(zhì))的過程，將水的電阻率從0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm
產(chǎn)品特點：
無化學(xué)析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達(dá)到18MΩ·cm以上
產(chǎn)品特點：
終端供水泵能夠?qū)崿F(xiàn)不降壓設(shè)備切換，可選擇恒壓、恒流控制方式
集成電路使用超純水設(shè)備可以用于清洗集成電路的制造設(shè)備和工藝中的各個環(huán)節(jié)，包括晶圓清洗、蝕刻、沉積等。它能夠去除雜質(zhì)、顆粒和化學(xué)物質(zhì)，確保在制造過程中的高純度和無污染
半導(dǎo)體行業(yè)對生產(chǎn)用水的要求非常嚴(yán)格，以下是一些常見的半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)用水標(biāo)準(zhǔn)：
1. 電阻率：通常要求超過18兆歐姆·厘米（MΩ·cm），有時甚至要求更高的值。
2. 離子含量：各種離子的含量都要限制在極低的濃度，例如陽離子和陰離子都要控制在納克級別以下。
3. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。
4. 高純水（HPW）：高純水是指相對較高純度但不同于超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。常見的高純水標(biāo)準(zhǔn)包括：
5. 電阻率：通常要求在2-10兆歐姆·厘米（MΩ·cm）范圍內(nèi)。
6. 離子含量：各種離子的含量也需要在較低的水平上進(jìn)行控制，但比超純水標(biāo)準(zhǔn)寬松一些。
7. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。
可根據(jù)客戶需求定制，出水達(dá)行業(yè)用水標(biāo)準(zhǔn)
