1.技術(shù)參數(shù):
輸入電壓 | AC220V±10%,50Hz |
工作電壓 | DC2400V |
功率(主機(jī)與機(jī)械泵) | 500W |
工作原理 | 磁控濺射 |
可選靶材 | 金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬 |
真空泵 | 兩級(jí)直聯(lián)旋片式真空泵 1L/s |
真空腔 | φ128×130mm |
樣品杯 | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
整機(jī)尺寸(長×寬×高) | 424×271×255(mm) |
重量(主機(jī)) | 11 kg |
工作環(huán)境 | 溫度 5~40℃,濕度<60% |
存儲(chǔ)環(huán)境 | 溫度-10~60℃,濕度<80% |
工作氣體 | Air / Ar |
保護(hù)功能 | 過流、真空雙保護(hù) |
2.效果圖:
2.1 陶瓷濾膜鉑靶10萬倍( SU5500 ):
2.2 噴金樣品電鏡觀測(cè)圖對(duì)比
GVC-2000: 樣品形貌真實(shí)完整:
其他設(shè)備噴金的效果圖(熱損傷嚴(yán)重):