Sigma 300 場發(fā)射掃描電子顯微鏡
用于高品質成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能
將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。 Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
用于清晰成像的靈活探測
- 利用探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
- 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
- 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
- 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
- 首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
- 接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡
- 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
- 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
- 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
- Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
- Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
- Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測
- 利用新的探測技術表征所有的樣品。
- 在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
- 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
- 利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
- 利用 BSD 或者 YAG 探測器進行成份分析。
配件
SmartEDX
為您帶來一體化能譜分析解決方案
如果單采用SEM成像技術無法全面了解部件或樣品，研究人員就需要在SEM中采用能譜儀（EDS）來進行顯微分析。通過針對低電壓應用而優(yōu)化的能譜解決方案，您可以獲得元素化學成分的空間分布信息。得益于：
- 優(yōu)化了常規(guī)的顯微分析應用，并且由于氮化硅窗口優(yōu)秀的透過率，可以探測輕元素的低能X射線。
- 工作流程引導的圖形用戶界面極大地改善了易用性，以及多用戶環(huán)境中的重復性。
- 完整的服務和系統(tǒng)支持，由蔡司工程師為您的安裝、預防性維護及保修提供一站式服務。
