SGN納米材料高剪切分散機
納米材料研磨分散設備、高剪切分散設備、管線式高速分散機GRS2000系列
--江蘇思峻機械設備有限公司
江蘇思峻納米導電銀漿抄高速分散機
德國抄高速銀漿分散機
德國高剪切納米分散機
管線式超高速分散機
三級高剪切分散機
納米三級分散機
江蘇思峻分散設備
銀漿的簡述：
銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料，導電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的，其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系，銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質(zhì)量、所以選擇合適的分散設備對銀粉的分散是質(zhì)關重要的，當然分散劑的應用也是幣要的；可致電江蘇思峻機械設備有限公司、我們有磚業(yè)的技術工程師依據(jù)您工藝及物料特性為您量身推薦醉合適的設備、公司配備實驗室與樣機供您購前參觀、歡迎蒞臨指導！
SGN納米材料高剪切分散機、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。而在通常情況下各個相是互不相溶的；當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相，由于轉(zhuǎn)子抄高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液）泡沫（氣體/液體）；從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復，醉終獲得穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
抄高速分散均質(zhì)乳化機的抄高轉(zhuǎn)速與剪切率對于獲得抄細微懸浮液是質(zhì)關重要的；根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎上開發(fā)推出GRX2000超高速剪切乳化機機；其剪切速率可以超過20000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級，剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度很高,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小. 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點：
1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式悠于批次式）
2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 乳化頭的齒形結(jié)構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（次數(shù)越多，效果越好，直至設備及限）
線速度的計算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m) 由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率 – 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高剪切分散機 分散混合設備 超聲波分散機 可應用于多種粉體的分散，比如鋁粉，銀粉，金粉，鋅粉，炭黑，白炭黑，硬脂酸鹽，金屬氧化物，光伏材料，半導體材料，防腐材料，防火材料等
型號規(guī)格 流量L/h 轉(zhuǎn)速r/min 線速度m/s 功率kw 進出口管徑
GRS2000/4 300-1000 14000 44 2.2 DN25/DN15
GRS2000/5 1000-15000 10500 44 7.5 DN40/DN 32
GRS2000/10 3000 7300 44 15 DN50/ DN50
GRS2000/20 8000 4900 44 37 DN80/DN 65
GRS2000/30 20000 2850 44 75 DN150/DN125
GRS2000/50 40000 2000 44 160 DN200/DN150
通過變頻高轉(zhuǎn)速可以達到20000r/min，GRS2000系列輸出轉(zhuǎn)速高于傳統(tǒng)分散4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果具佳。
