英國(guó)Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專(zhuān)為檢測(cè)超高真空容器中的存在組分而設(shè)計(jì),針對(duì)真空診斷進(jìn)行精確的分析。
離子源為鍍金離子源,適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域,其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀兼容。
·鍍金離子源,以減少離子源脫氣
·氧化物涂層雙銥絲的離子源
·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測(cè)器
·質(zhì)量數(shù)范圍: 200,300 amu
·掃描速度: 100amu/s
·最小掃描步階:0.01amu
·靈敏度: 0.1 ppm~1ppm
·穩(wěn)定性: 24h以上,峰高變化小于±0.5%
·最小檢測(cè)分壓:5 x 10-14 mbar
·工作壓力:1 x 10-4 mbar