不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)
(透鏡測量等)
不規(guī)則非球面光學(xué)元件(光刻機透鏡等)應(yīng)力分布測量系統(tǒng)
利用調(diào)制器技術(shù), 公司的測量系統(tǒng)可以在深紫外(193nm)波段進行應(yīng)力雙折射探測。針對特定材料制作(氟化鈣)和特定形狀(非球面透鏡)有著的技術(shù)解決方案。
應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng),非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量,應(yīng)力,應(yīng)力橢偏測量
Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)(應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng))通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向,這些數(shù)據(jù)同時也表示了應(yīng)力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜,多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學(xué)元件(光刻機透鏡等)有著的掃描測量解決方案。
產(chǎn)品特點:
1. 全套內(nèi)置軟件自動掃描成圖
2. 非球面掃描(手動宏程序)
3. 應(yīng)力大小及方向分布探測成圖
4. 定制各種尺寸形狀樣品臺
5. 探測強度:皮瓦
產(chǎn)品參數(shù):
1. 可見光波段探測延遲范圍:0 to 300+nm
2. 深紫外波段探測延遲范圍:0 to 90+nm
3. 可見光波段應(yīng)力探測精度:0.001nm / ±0.03 (up to 3nm, 1% thereafter)
4. 深紫外波段應(yīng)力探測精度:0.001nm / ± 0.08 nm (up to 4nm, 2% thereafter)