一、連續(xù)電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設(shè)備概述:
EDI去離子超純水設(shè)備在設(shè)計上,采用成熟、可靠、、自動化程度高的兩級RO+EDI去離子水處理工藝,金屬離子的去除率達(dá)到98%以上,確保處理后的超純水設(shè)備出水水質(zhì)的電阻率達(dá)到10-18MΩ.cm。超純水設(shè)備材料均采用可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本,水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟(jì)合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
二、連續(xù)電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設(shè)備的工作原理
一般自然水源中都會存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透預(yù)處理,有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0MΩ·cm,即反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率的一般范圍為20-1µS/cm。根據(jù)在實際應(yīng)用的情況,EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 MΩ·cm。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(如CO2)和一些弱電解質(zhì)(如硼、二氧化硅等),這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中須被除掉。但是反滲透預(yù)處理對于這些雜質(zhì)的去除效果較差。因此,EDI裝置的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì)),將水的電阻率從0.05~1.MΩ·cm提高到5~18.2 MΩ.cm。
三、連續(xù)電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設(shè)備的生產(chǎn)工藝
1、原水箱—原水泵—石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟化過濾器(選配)--保安過濾器—高壓泵— 一級反滲透—中間水箱—混床增壓泵—混合離子交換床-超純水箱-純水泵—用水點
2、原水箱—原水泵—石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟化過濾器(阻垢加藥系統(tǒng))--保安過濾器—高壓泵— 一級反滲透—中間水箱—EDI增壓泵—EDI系統(tǒng)—超純水箱—純水泵—用水點
3、原水箱—原水泵—石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟化過濾器(阻垢加藥系統(tǒng))--保安過濾器— 一級高壓泵— 一級反滲透— 一級RO水箱—二級高壓泵—二級反滲透系統(tǒng)—純水箱—EDI增壓泵—紫外線殺菌器—0.22um微孔過濾器—EDI系統(tǒng)—超純水箱—純水泵—用水點
4、原水箱—原水泵—石英砂過濾器—活性炭過濾器—軟化過濾器(阻垢加藥系統(tǒng))--保安過濾器— 一級高壓泵— 一級反滲透— 一級RO水箱—二級高壓泵—二級反滲透系統(tǒng)—純水箱—EDI增壓泵—紫外線殺菌器—0.22um微孔過濾器—EDI系統(tǒng)—超純水箱—純水泵—核能拋光混床—TOC殺菌器—用水點
四、連續(xù)電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設(shè)備的其它應(yīng)用范圍
生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統(tǒng)。水質(zhì)可達(dá)可達(dá)18.25兆歐,符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。我公司曾為國外很多電子工業(yè)廠家制作工業(yè)超純水設(shè)備。
五、連續(xù)電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設(shè)備的優(yōu)點
1、出水水質(zhì)具有穩(wěn)定度。
2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水。
3、模塊化生產(chǎn),并可實現(xiàn)全自動控制。
4、不需酸堿再生,無污水排放。
5、不會因再生而停機(jī)。
6、無需再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運。
7、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。
8、運行成本和維修成本低。
9、運行操作簡單,勞動強(qiáng)度低。
相關(guān)搜索:EDI電阻率下降的原因 多晶硅片清洗對純水水質(zhì)的要求 超純水處理設(shè)備系統(tǒng)