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激光共聚焦顯微鏡 IRLC

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海西努光學(xué)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/2/17 11:19:21
  • 訪問次數(shù)121
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上海西努光學(xué)科技有限公司,以下簡稱西努光學(xué)。西努光學(xué)成立于2003年,始終致力于“以光學(xué)為核心,為用戶提供檢測解決方案”為方針,推動智能檢測裝備的轉(zhuǎn)型升級,將顯微光學(xué)成像以及圖像算法應(yīng)用于檢測技術(shù)的科技創(chuàng)新公司。 公司專注服務(wù)于工業(yè)領(lǐng)域客戶,通過顯微光學(xué)成像、圖像算法及實(shí)驗(yàn)方案應(yīng)用技術(shù)和產(chǎn)品幫助工業(yè)企業(yè)實(shí)現(xiàn)數(shù)字化、智能化檢測發(fā)展。公司主要為用戶提供檢測技術(shù)方案及檢測裝備。產(chǎn)品功能涵蓋尺寸及缺陷檢測、智能制造、實(shí)驗(yàn)室理化解決方案等工業(yè)領(lǐng)域多個環(huán)節(jié)。 經(jīng)過十余年的深耕與積累,公司累計服務(wù)2000多家客戶,積累了大量的行業(yè)經(jīng)驗(yàn),并確保了前沿的顯微光學(xué)與檢測實(shí)際場景的深度融合。公司主要客戶群體涵蓋了微電子行業(yè)、汽車零件行業(yè)、智能裝備等工業(yè)領(lǐng)域。 西努光學(xué)以科技創(chuàng)新為公司發(fā)展的原動力,以顯微光學(xué)成像、圖像算法為核心技術(shù),緊密圍繞企業(yè)的檢測需求,通過持續(xù)科技創(chuàng)新,為用戶提供*的工業(yè)檢測設(shè)備及應(yīng)用方案。西努光學(xué) 誠信為您服務(wù) 專業(yè)為您服務(wù)基本價值觀:1、西努光學(xué)秉持“以光學(xué)為核心,為客戶提供解決方案”的經(jīng)營方針,致力于光學(xué)檢測與應(yīng)用水平的提升。2、西努光學(xué)以誠信、專業(yè)、服務(wù)為基本價值觀和追求,以實(shí)現(xiàn)客戶-西努、供應(yīng)商-西努光學(xué)、合作伙伴-西努、員工-西努雙贏為目標(biāo)。3、西努光學(xué)認(rèn)為員工是西努寶貴的財富,是構(gòu)成西努價值和競爭力的核心;西努光學(xué)將根據(jù)自身?xiàng)l件不遺余力地為員工職業(yè)發(fā)展、事業(yè)發(fā)展和家庭幸福做出*大努力。4、公平、公正、坦誠是西努人事制度的價值基礎(chǔ);友愛互助、團(tuán)隊協(xié)作是西努特別重視的品質(zhì);勤勉、敬業(yè)、精益求精是西努特別強(qiáng)調(diào)的職業(yè)精神。5、誠信守約是西努基本行為準(zhǔn)則。西努堅決反對和抵制一切欺詐、不守信諾的行為;無論這種行為基于何種理由。6、可持續(xù)發(fā)展、效益穩(wěn)定增長、效率穩(wěn)步提升是西努戰(zhàn)略制定的基本準(zhǔn)則和依據(jù)。7、技術(shù)和服務(wù)是西努能夠成為光學(xué)解決方案提供商的關(guān)鍵,西努光學(xué)確保技術(shù)提升、客戶滿意度提升方面的投入能夠隨利潤的增長而增長。
非破壞性方式在晶片或器件內(nèi)進(jìn)行成像WDI設(shè)計并制造了自動紅外激光共聚焦顯微鏡(IRLC)
激光共聚焦顯微鏡 IRLC 產(chǎn)品信息

非破壞性方式在晶片或器件內(nèi)進(jìn)行成像


WDI設(shè)計并制造了自動紅外激光共聚焦顯微鏡 (IRLC)。

IRLC可以對硅晶片的表面之下和內(nèi)部進(jìn)行檢查, 使其內(nèi)部結(jié)構(gòu)以亞微米分辨率呈現(xiàn)。



激光共聚焦顯微鏡多層檢測


由近紅外激光和掃描共聚焦組合而成的IRLC有著諸多優(yōu)勢。首先便是具備了對薄晶片的多層高分辨率圖像的采集能力;同時,IRLC具備更深的樣品穿透能力、更高的分辨率和更快的圖像采集速度;


近紅外優(yōu)化光路


系統(tǒng)包含了全套Olympus近紅外長工作距離物鏡。這組物鏡專為硅晶圓的內(nèi)部結(jié)構(gòu)檢測而設(shè)計,采用優(yōu)化的近紅外光學(xué)系統(tǒng),并配備專用的校正環(huán)以適應(yīng)不同后面的硅片或玻璃表面。


一鍵雙視野


IRLC包含一組可見光彩色成像系統(tǒng)和一組近紅外共聚焦系統(tǒng)。這種搭配可對樣品表面和底層(*深達(dá)800μm)同時成像。

由于采用了ATF6/0AA/ZAA技術(shù)(即實(shí)時快速自動聚焦技術(shù)),IRLC實(shí)現(xiàn)了真正意義上的實(shí)時聚焦-不管觀察方式和樣品表面狀況如何變化,視野內(nèi)持續(xù)聚焦?fàn)顟B(tài)。


簡潔的軟件界面


功能完善、操作簡單,直觀的軟件界面設(shè)計旨在提高工作效率,簡化檢測流程?;静倏毓δ馨▽φ彰?、放大倍率、XYZ控制以及對焦補(bǔ)償?shù)膮?shù)調(diào)整。 載物臺移動可通過軟件操控、手柄操控、或者簡單地點(diǎn)擊實(shí)時畫面來完成。


高 級功能


線性XY “pointto point” 和 “pointto multipoint” 測量及高 級圖像采集選項(xiàng)可實(shí)現(xiàn)均幀、AveragedImage、Z軸序列采集、以及在兩點(diǎn)間圖像序列采集。



自動檢測


集成了全電動控制和自動聚焦的IRLC,配合全自動軟件可實(shí)現(xiàn)全自動檢測流程,并可在同程內(nèi)對多個樣品進(jìn)行檢測。


CIS(CMOS成像芯片)


很多CIS模塊已經(jīng)在像素上方加裝了保護(hù)面板和彩色濾光片,給檢測帶來很多困難。使用IRLC即可輕松看到表面之下的結(jié)構(gòu)特征。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

20X IRLC (Front)

50X IRLC (Front)

100X IRLC (Front)

 


高摻雜半導(dǎo)體


從正面穿透金屬基板觀察是不可能實(shí)現(xiàn)的;使用IRLC從背面穿透300μm高摻雜硅可清晰觀察到該區(qū)域下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

10XBF (Front)

20XIRLC (Back)

50XIRLC (Back)

100XIRLC (Back)


低摻雜半導(dǎo)體


使用IRLC從背面穿透800μm低摻雜硅,刻蝕圖案清晰可見。

        

5X BF (Front)

20XIRLC (Back)

50X IRLC (Back)

100X RLC (Back)


MEMS器件 


僅使用明場觀察,表面細(xì)節(jié)清晰可見;使用IRLC,表面之下的MEMs結(jié)構(gòu)清晰可見。

5X BF (Front)

5X IRLC (Front)

10XIRLC (Front)

20XIRLC (Front)


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