開(kāi)啟微納3D精密制造之門
BMF nanoArch® P140 系統(tǒng)簡(jiǎn)介
nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹(shù)脂槽液面,在液面固化樹(shù)脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
nanoArch® P140 系統(tǒng)性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹(shù)脂 | 光學(xué)精度 10μm | ||
XY打印精度 10~ 40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H) | ||
打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機(jī)器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
設(shè)備功率 2000W |
注:①、樣品高度典型10mm,45mm
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹(shù)脂,比如HDDA,PEGDA等。
個(gè)性化
405nm固化波段的光敏樹(shù)脂材料 ,支持透明樹(shù)脂,柔性樹(shù)脂,硬性樹(shù)脂,納米顆粒摻雜復(fù)合樹(shù)脂,4D打印樹(shù)脂,生物醫(yī)療樹(shù)脂等,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能
系統(tǒng)特點(diǎn)
(XY打印精度高達(dá)10μm)
(10μm~40μm的打印層厚)