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EDI高純水設(shè)備

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  • 公司名稱東莞市綠健水處理設(shè)備有限公司
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  • 廠商性質(zhì)
  • 更新時(shí)間2024/2/22 15:15:40
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一、EDI高純水設(shè)備說(shuō)明:EDI也是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)
EDI高純水設(shè)備 產(chǎn)品信息

一、EDI高純水設(shè)備說(shuō)明:

EDI也是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不干凈,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實(shí)現(xiàn)樹脂自再生來(lái)克服樹脂失效后通過(guò)化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。
EDI裝置包括陰/陽(yáng)離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過(guò),不允許陽(yáng)離子通過(guò),而陽(yáng)離子交換膜只允許陽(yáng)離子透過(guò),不允許陰離子通過(guò)。離子交換樹脂充夾在陰陽(yáng)離子交換膜之間形成單個(gè)處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽(yáng)電極形成電場(chǎng)。來(lái)水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下通過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜被去除,進(jìn)入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂大大地提高了離子被去除的速度。同時(shí),水分子在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持狀態(tài)。EDI裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為得到的產(chǎn)水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

二、EDI高純水設(shè)備工作原理

般自然水源中都會(huì)存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理,有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0兆歐,即反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率的一般范圍為20-1μS/cm。根據(jù)在實(shí)際應(yīng)用的情況,EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 兆歐。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(如CO2)和一些弱電解質(zhì)(如硼、二氧化硅等),這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中須被除掉。但是反滲透預(yù)處理對(duì)于這些雜質(zhì)的去除效果較差。因此,EDI的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì)),將水的電阻率從0.05~1.MΩ/cm提高到5~18.2 MΩ/cm。

三、EDI高純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn):
1、無(wú)需酸堿再生,無(wú)化學(xué)藥劑使用,無(wú)酸堿廢水排放,生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染,屬清潔生產(chǎn);
2、無(wú)需停機(jī)再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水;
3、運(yùn)行穩(wěn)定可靠,降低運(yùn)行和維修費(fèi)用;
4、無(wú)需派專門人員看守,易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動(dòng)化控制;
5、設(shè)備占地面積小,減少車間建設(shè)面積,節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用投資。
6、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì),結(jié)合的控制軟件,現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

四、EDI高純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域
1、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室;
2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛;
3、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
4、超純材料和超純化學(xué)試劑;
5、實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
6、汽車、家電表面拋光處理;
7、光電產(chǎn)品;
8、其他高科技精微產(chǎn)品 。

五、EDI高純水設(shè)備與離子交換設(shè)備
A、產(chǎn)水水質(zhì)比較:
EDI裝置是一個(gè)連續(xù)凈水過(guò)程,因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,電阻率可達(dá)18.25兆歐,達(dá)到超純水的指標(biāo)?;齑搽x子交換設(shè)施的凈水過(guò)程是間斷式的,,在剛剛被再生后,其產(chǎn)品水水質(zhì)較高,而在下次再生之前,其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。
B、投資量比較
混床離子交換設(shè)備相比EDI裝置投資量要高約20%左右,但從混床需要酸堿儲(chǔ)存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、樹脂更換來(lái)看,兩者費(fèi)用相差在10%左右。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn),EDI裝置所需的投資量會(huì)大大的降低。另外,EDI裝置設(shè)備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。
C、運(yùn)行成本比較:
EDI裝置運(yùn)行費(fèi)用包括電耗、水耗、藥劑費(fèi)及設(shè)備折舊等費(fèi)用,省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費(fèi)用。

六、EDI高純水設(shè)備安裝要求

1、無(wú)須專做安裝基礎(chǔ),地基堅(jiān)實(shí)水平即可;
2、入水水壓如低于0.2Mpa需加裝管道泵;
3、使用前需先沖洗管道,避免雜質(zhì)堵塞閥體,污染樹脂;
4、不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑,定期向鹽罐加鹽,確保鹽水飽和濃度(應(yīng)保證溶解時(shí)間不小于六小時(shí));
5、設(shè)備配置。


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