實(shí)驗(yàn)室及小批量生產(chǎn)用小型 光刻機(jī)平臺(tái)

蘇斯公司的 MA/BA 4 代系列是一代的半自動(dòng)光刻和鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)，并引進(jìn)了新的平臺(tái)系統(tǒng)。新平臺(tái)主要是配置不同。它由標(biāo)準(zhǔn)款 MA/BA 4 代與用于工藝的擴(kuò)展 MA/BA 4 代專業(yè)款組成。

基礎(chǔ)款有 MA/BA6 4 代和 MA/BA8 4 代兩種。此掩模和鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)的設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，用戶界面友好，成本低，占用面積小，于學(xué)術(shù)研究及小批量生產(chǎn)使用。

蘇斯的 MA/BA 4 代系列為學(xué)術(shù)研究、微機(jī)電系統(tǒng)/納米機(jī)電系統(tǒng)、3D 集成和化合物半導(dǎo)體全光刻領(lǐng)域樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。另外，它還能夠支持鍵合對(duì)準(zhǔn)、熔接鍵合及 SMILE 壓印工藝。在 MA/BA 4 代系列上開發(fā)的工藝可以快速地轉(zhuǎn)化為自動(dòng)化掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)大批量生產(chǎn)工藝。

高精度產(chǎn)生工藝成果

MA/BA 4 代系列高度自動(dòng)化，工藝成果更優(yōu)異。恒量模式、自動(dòng)控制曝光時(shí)間、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)等功能為工業(yè)參數(shù)優(yōu)化提供了更好的支持。此外，MA/BA 4 配置了高質(zhì)量的光學(xué)系統(tǒng) MO Exposure Optics，曝光條件更優(yōu)異。的機(jī)制使校準(zhǔn)精度更高。采用上、下面顯微鏡單元（TSA和BSA）設(shè)計(jì)方式，不再像TSA顯微鏡那樣需要大距離移動(dòng)，從而避免了震動(dòng)。

操作舒適性

配方編輯、數(shù)據(jù)記錄功能，以及可分配使用權(quán)限，減輕了操作員的工作負(fù)擔(dān)，同時(shí)減少了錯(cuò)誤源。MA/BA 4 代平臺(tái)還采用了的數(shù)碼顯微鏡和攝像系統(tǒng)，可從顯示屏上顯示更高質(zhì)量的圖像，視野更大，從而使校準(zhǔn)工作更為便捷。

環(huán)境保護(hù)及勞動(dòng)保護(hù)

MA/BA 4 代系列可選配節(jié)能 LED 燈裝置，可大大降低運(yùn)營(yíng)及維護(hù)成本，同時(shí)提供更好的環(huán)境保護(hù)及勞動(dòng)保護(hù)。相比，水銀蒸汽燈很昂貴，一旦廢舊，需要作為特殊垃圾處理。該設(shè)備具有更好的安全防護(hù)設(shè)施，包括紫外照射防護(hù)、安全鎖、防夾裝置等，可滿足更高的安全要求。

性價(jià)比

MA/BA 4 代系列的擁有成本吸引力的地方在于占地面積小，同時(shí)工藝技術(shù)多樣。其中，如果選配了節(jié)能LED燈，更能節(jié)省了運(yùn)營(yíng)和維護(hù)成本。設(shè)備結(jié)實(shí)耐用，各種操作元件、可更換部件都容易接觸，加上采用 LED 光源，蘇斯公司的 MO Exposure Optics MA/BA 4 代平臺(tái)極大降低了維護(hù)成本。此外，還可以通過(guò)遠(yuǎn)程訪問(wèn)設(shè)備，識(shí)別及解決出現(xiàn)的故障，這又可以省下很多成本。

晶圓與晶圓之間對(duì)準(zhǔn)、熔接鍵合、壓印光刻等都是可選配加裝的其他功能。