一、VL-5000直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設計,以及創(chuàng)新光學系統(tǒng),可確保對重要元素的準確鑒定和痕量分析,儀器擁有低的檢出限及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性;分析結果準確,重現(xiàn)性好。創(chuàng)想儀器運用檢測器與數(shù)字讀出技術相結合,使儀器整體設計優(yōu)于傳統(tǒng)的電倍增管技術,已逐漸成為金屬制造業(yè),加工業(yè)及鑄造業(yè)的重要選擇。
二、VL-5000直讀光譜儀采用的光學系統(tǒng)設計,其中結合了帶優(yōu)化像素的固態(tài)檢測器技術,好的光柵分光技術,代表了數(shù)碼時代的直讀光譜技術。分光系統(tǒng)由于采用多塊線陣CCD/CMOS作為檢測器,實現(xiàn)分析波段內(nèi)的全譜接收,各個元素分別采用多條譜線分析,綜合輸出,動態(tài)范圍大,結果準確。放置的探測器滿足分析波段內(nèi)的所有譜線接收無一遺漏,實現(xiàn)同一元素多條譜線同時測定,自動選擇輸出。針對等離子態(tài)光譜信號的觀測特點,為了獲取好的觀測角度以獲得好的分析數(shù)據(jù),創(chuàng)想儀器將光室進行了特定角度的傾斜放置。 VL-5000通過在直接光路入射窗口上應用MgF 2 材料,使儀器能夠自如的進行超低紫外波段(VUV)光譜信號的分析。
三、VL-5000光譜儀在每次激發(fā)時,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,除繁瑣的波峰掃描工作。全譜技術自動描跡調(diào)整光路,激發(fā)樣品時,儀器自動識別每塊CCD/CMOS上的特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。消除因溫度、氣壓、震動等變化而產(chǎn)生的光譜漂移;而傳統(tǒng)使用光電倍增管技術的光譜需進行手動進精細調(diào)節(jié),技術要求很高。全譜技術自動快速尋址,避免了費事費力的手動操作,也避免了人為誤差。
四、VL-5000光譜儀采用全譜直讀(TSA)技術,儀器可以非常方便增加譜線,增加基體,在不添加硬件設施的情況下,即可實現(xiàn)多基體分析。客戶可以在使用過程中根據(jù)實際需要在儀器上增加分析的基體及元素種類,這些工作可以在用戶現(xiàn)場方便完成。相比同類采用PMT技術的光譜儀,則需要大范圍改動硬件。同時由于初始儀器的配置限制,可能無法添加客戶要求的基體或元素。
五、VL-5000光譜儀的火花臺進行了全新的設計,除保留了傳統(tǒng)火花臺的優(yōu)勢外,針對新的應用需求作了相應的優(yōu)化?;鸹ㄅ_采取了密封式設計,整個火花臺的結構堅固,在儀器持續(xù)使用高溫火花激發(fā)的情況下保持火花臺結構的穩(wěn)定。VL-5000光譜儀的火花臺通過結構設計上的變化改進了氬氣流的噴射方向,大大減少了火花激發(fā)殘留物在火花臺上的殘留,同時使火花臺的清潔和維護也變得更為簡單。VL-5000光譜儀保留了開放式樣品臺的設計,使樣品的放置及分析更加簡便,樣品處理也比傳統(tǒng)光譜更加簡單。除電極間隙外,無特別調(diào)整要求。
六、VL-5000光譜儀采用了的噴射電極技術(JET STREAM)。在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流。這種技術會帶來以下優(yōu)勢:激發(fā)點周圍的氬氣流保證了激發(fā)過程不受外界干擾節(jié)省了氬氣的使用,降低了客戶的使用成本。樣品臺無須密封,線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進行分析。抽拉式前罩,使激發(fā)臺的清理維護更加方便。
七、VL-5000光譜儀的入射光路設計十分簡潔。通過將入射光路與光室系統(tǒng)直接連接,兩道透鏡入射窗口確?;覊m與防護獨立分開,維護清洗變得非常方便,客戶可以在日常工作中自行進行操作。
八、VL-5000光譜儀的電路系統(tǒng)進行了全新的設計。在火花源及讀出系統(tǒng)上都運用了當今新的技術。 VL-5000光譜儀采用了同步實時數(shù)字讀出技術,與傳統(tǒng)的順序讀出技術相比,分析時間和數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性都會大大提高。VL-5000光譜采用了全數(shù)字等離子火花光源技術。所有的激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置。VL-5000光譜儀將電路系統(tǒng)與光學系統(tǒng)進行了的分離,將電路系統(tǒng)統(tǒng)一置 于儀器光室的外部分,這樣的設計使儀器的散熱功能大大提升,同時使儀器的后續(xù)維護也十分便捷。
九、VL-5000光譜儀的操作軟件十分簡單易學,全中文或英文菜單。沒有任何光譜儀器知識背景的操作人員只需簡單培訓,就可進行儀器的使用。同時儀器的設計處處體現(xiàn)了以人為本的設計理念,使儀器的使用和維護處處體現(xiàn)人性化的關懷。
- 的第二代CCD/CMOS全譜光譜制造技術(數(shù)字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術)、通道可實現(xiàn)不受限制;
- 引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步,國內(nèi)能生產(chǎn)CCD/CMOS全譜技術光譜儀的制造商;
- 采用吹氬型恒溫光室,穩(wěn)定、可靠、免維護;不再采用小型雙光室設計解決長短波元素的技術問題;
- 基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用;
- 升級多基體方便,無須變動增加硬件;
- 優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性;
- 體積小、重量輕, 移動安裝方便;
- 高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性;
- 節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
光譜儀光學系統(tǒng)
● 帕邢-龍格結構,羅蘭圓光學系統(tǒng)
● 光 室 溫 度:自動控制恒溫:34℃±0.5℃
● 外部入射窗口,方便清洗及更換
● 漂移校正功能-得益于自動尋峰功能
● 紫外波段靈敏度,得益于全新改良的真空技術
數(shù)字等離子發(fā)生器
● 全數(shù)字等離子火花光源技術
● 得益于緊湊的設計和半導體控制技術
● 高能預燃技術(HEPS)
● 激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置
優(yōu)化的樣品臺
● 開放式樣品臺設計,滿足大樣品測試要求
● 4mm樣品臺分析間隙
● “噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
● 低氬氣消耗,待機時:無須待機流量
● 定制異性樣品適配器
● 不同基體無須更換火花臺
● 優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)
● 牢固的銅制樣品臺散熱效果好
計算機及讀出系統(tǒng)
● 品牌電腦
● 主機:一體機型
● CPU : J4105
● 內(nèi)存:4G
● 硬盤:256G SsD
● 顯示器:23英寸液晶顯示器
數(shù)據(jù)輸出
● 數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲
● 可接駁各種標準打印設備
● 數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程發(fā)送傳輸
軟件系統(tǒng)
● Windows 7 / Windows10
● 中文或英文光譜儀操作軟件
● 可選數(shù)據(jù)維護程序
尺 寸
● 臺式:758mm(L)* 665mm(W)* 390mm(H)
● 重量:48kg
電源要求:
● AC 220V/50Hz
● 待機功率60W
● 10A 普通保險絲
氬氣要求
● 純氬氣, 99.999; 氬氣減壓閥(專配減壓閥)
● 氣壓>4MPa; 出口儀器氣壓0.5MPa