CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì)，具有出色的穩(wěn)定性，硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等。
具體應(yīng)用于：
（1） 電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究；
（2）電化學(xué)分析研究；
（3）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動(dòng)力電池和超電容器等）、功能材料以及傳感器的性能研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評(píng)價(jià)；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。
硬件特點(diǎn)
● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 內(nèi)置FRA頻響分析儀，頻率范圍 10μHz ~1MHz
● 高帶寬高輸入阻抗的放大器
● 內(nèi)置FPGA DDS信號(hào)合成器
● 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
● 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V（可擴(kuò)展至±200V）
● 電流控制范圍：±2.0A（可擴(kuò)展至20A）
● 電位分辨率：10μV，電流分辨率：10pA（可延伸至99fA）
軟件特點(diǎn)
① 數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運(yùn)算，計(jì)算各氧化還原峰的峰高、峰面積和峰電位等；
極化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動(dòng)力學(xué)解析，計(jì)算Tafel斜率ba，bc，腐蝕電流密度icorr，擴(kuò)散電流、極化電阻Rp和腐蝕速率等，還可由電化學(xué)噪聲譜計(jì)算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
② 實(shí)時(shí)存儲(chǔ)
CorrTest實(shí)時(shí)存儲(chǔ)測(cè)量數(shù)據(jù)，即使因斷電導(dǎo)致測(cè)試中斷，中斷之前的數(shù)據(jù)也會(huì)自動(dòng)保存。
③ 定時(shí)測(cè)量
CorrTest測(cè)試軟件具有定時(shí)測(cè)量功能， 對(duì)于某些需要研究體系隨時(shí)間變化特征時(shí)，可提前設(shè)好測(cè)試參數(shù)與間隔時(shí)間，讓儀器在無人值守下自動(dòng)定時(shí)測(cè)量，提高實(shí)驗(yàn)效率。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
① 交流阻抗
儀器采用相關(guān)積分算法和雙通道同步過采樣技術(shù)，具有較強(qiáng)的抗干擾能力，尤其適合于涂層、混凝土等高阻體系（>109Ω）的交流阻抗測(cè)量，也可用于Mott-Schottky 曲線和微分電容曲線繪制。軟件能實(shí)時(shí)顯示開路電位，用戶無需輸入，即可輸出準(zhǔn)確的極化過電位。
② 極化曲線
具有線性極化和Tafel極化曲線測(cè)量功能，用戶可設(shè)定循環(huán)極化曲線的陽極回掃電流（鈍化膜擊穿電流），來確定材料的點(diǎn)蝕電位和保護(hù)電位，評(píng)價(jià)晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線，可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評(píng)價(jià)。
6063鋁合金在含Ce3+的3% NaCl溶液中的EIS 鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液
中的動(dòng)電位極化曲線，掃描速率為1mV/s
③ 伏安分析
能完成線性掃描伏安（LSV）、循環(huán)伏安（CV）、階梯伏安（SCV）、方波伏安（SWV）、差分脈沖伏安（DPV）、交流伏安（ACV）、溶出伏安等多種電分析方法，集成峰面積、峰電流計(jì)算和標(biāo)準(zhǔn)曲線分析功能。
聚吡咯超電容器在0.5 mol/L H2SO4 鉑電極在3 mmol/L K4[Fe(CN)6]+ 0.4 mol/L KCl
溶液中的CV曲線 溶液中的CV 曲線（99mV/s）
④ 電化學(xué)噪聲
采用高阻跟隨器和零阻電流計(jì)測(cè)量腐蝕體系自發(fā)的電位與電流波動(dòng)，可用于點(diǎn)蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析，可評(píng)估亞穩(wěn)態(tài)蝕點(diǎn)或裂紋的誘導(dǎo)、生長(zhǎng)和死亡過程?；谠肼曤娮韬忘c(diǎn)蝕指數(shù)計(jì)算，也可用于局部腐蝕監(jiān)測(cè)。
⑤ 功率擴(kuò)展
CS系列電化學(xué)工作站的電流控制范圍為±2.0A，槽壓輸出≥21V，可滿足燃料動(dòng)力電池、大功率電池充放電、電化學(xué)電解或電沉積等領(lǐng)域的需求。采用的功率擴(kuò)展器，大輸出電流可達(dá)20A，槽壓±200V。
⑥ 全浮地測(cè)量
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電極，可用于工作電極本身接地體系的電化學(xué)研究，如用于高壓釜電化學(xué)測(cè)試（釜體接地），大地中金屬構(gòu)件（橋梁、混凝土鋼筋）的在線腐蝕研究等。
⑦ 光電測(cè)試模塊
CS電化學(xué)工作站可以與光強(qiáng)計(jì)、分光光度計(jì)聯(lián)用，用于光電化學(xué)測(cè)量，在進(jìn)行電化學(xué)測(cè)量的同時(shí)記錄光電流或光譜響應(yīng)信號(hào)。
⑧ 自定義方法
支持用戶自定義組合測(cè)量，用戶可以設(shè)定定時(shí)循環(huán)進(jìn)行某一測(cè)試方法或多種方法的組合測(cè)試，用于無人值守下的定時(shí)自動(dòng)測(cè)量；
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實(shí)例，方便用戶二次開發(fā)和自定義測(cè)試方法；
提供用戶自定義腳本編寫范例，用于實(shí)現(xiàn)您的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)。
| 恒電位控制范圍：±10V | 恒電流控制范圍：±2.0A |
| 電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù) |
| 電位靈敏度：10μV(>99Hz), 3μV(<> | 電流靈敏度：<> |
| 電位上升時(shí)間：﹤1μS(<><>μS(<> | 電流量程：2A～200nA,共8檔 |
| 參比電極輸入阻抗：1012Ω||20pF | 大輸出電流：2.0A |
| 槽壓輸出：±21V（可擴(kuò)展至±200V) | 電流掃描增量：1mA @1A/mS |
| CV和LSV掃描速度：0.001mV～9900V/s | 電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS |
| CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s | DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～990s |
| SWV頻率：0.001～99KHz | CV的小電位增量：0.075mV |
| AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1kHz | 電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置 |
| DA分辨率：16bit，建立時(shí)間：1μS | 低通濾波器：8段可編程 |
| 通訊接口：USB2.0 | 儀器重量：6.5Kg |
| 外形尺寸（cm）：36.5(W)X30.5 (D)X16 (H) |
|
電化學(xué)阻抗測(cè)量指標(biāo)
| 信號(hào)發(fā)生器 | |
| 頻率響應(yīng)：10μHz～500KHz | 交流信號(hào)幅值：1mV～2500mV |
| 頻率度：0.005% | 信號(hào)分辨率：0.1mV RMS |
| DDS輸出阻抗：50Ω | 直流偏壓：-10V～+10V |
| 正弦波失真率：<> | 波形：正弦波，三角波，方波 |
| 掃描方式：對(duì)數(shù)/線性，增加/下降 | |
| 信號(hào)分析器 | |
| 大積分時(shí)間：106個(gè)循環(huán)或者105S | 測(cè)量時(shí)間延遲：0～105秒 |
| 小積分時(shí)間：10mS或者一個(gè)循環(huán)的長(zhǎng)時(shí)間 | |
| 直流偏置補(bǔ)償 | |
| 電位補(bǔ)償范圍：-10V～+10V | 電流補(bǔ)償范圍：-1A～+1A |
| 帶寬調(diào)整：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置,共8可調(diào) | |
| 功能方法 | CS120 | CS150 | CS300 | CS310 | CS350 | CS360 | |
| 穩(wěn)態(tài)極化 | 開路電位測(cè)量（OCP） | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
| 恒電位極化（i-t曲線） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 恒電流極化 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 動(dòng)電位掃描（TAFEL曲線） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 動(dòng)電流掃描（DGP） | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
| 任意恒電流階梯波 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 恒電位階躍（VSTEP） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 恒電流階躍（ISTEP） | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 快速電位脈沖 | ● | ||||||
| 快速電流脈沖 | ● | ||||||
| 計(jì)時(shí)分析 | 計(jì)時(shí)電位法（CP） | ● | ● | ● | ● | ||
| 計(jì)時(shí)電流法（CA） | ● | ● | ● | ● | |||
| 計(jì)時(shí)電量法（CC） | ● | ● | ● | ● | |||
| 伏安分析 | 線性掃描伏安法（LSV） | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
| 線性循環(huán)伏安法（CV） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 階梯循環(huán)伏安法（SCV） | ● | ● | ● | ||||
| 方波伏安法（SWV） | ● | ● | ● | ||||
| 差分脈沖伏安法（DPV） | ● | ● | ● | ||||
| 常規(guī)脈沖伏安法（NPV） | ● | ● | ● | ||||
| 常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV） | ● | ● | ● | ||||
| 交流伏安法（ACV） | ● | ● | ● | ||||
| 二次諧波交流伏安（SHACV） | ● | ● | ● | ||||
| 溶出伏安 | 恒電位溶出伏安 | ● | ● | ● | |||
| 線性溶出伏安 | ● | ● | ● | ||||
| 階梯溶出伏安 | ● | ● | ● | ||||
| 方波溶出伏安 | ● | ● | ● | ||||
| 交流阻抗 | 電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描 | ● | ● | ● | |||
| 電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描 | ● | ● | ● | ||||
| 電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線） | ● | ● | ● | ||||
| 腐蝕測(cè)量 | 循環(huán)極化曲線（CPP） | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
| 線性極化曲線（LPR） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 動(dòng)電位再活化法（EPR） | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 電化學(xué)噪聲（EN） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 電偶腐蝕測(cè)量（ZRA） | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 氫擴(kuò)散測(cè)試（HDT）* | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 電池測(cè)量 | 電池充放電測(cè)試 | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 恒電流充放電 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
| 光電測(cè)量 | 電致調(diào)光測(cè)量* | ● | ● | ||||
| 光譜儀測(cè)量* | ● | ● | |||||
| 擴(kuò)展測(cè)量 | 盤環(huán)電極測(cè)試* | ● | ● | ● | ● | ||
| 數(shù)字記錄儀 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
| 波形發(fā)生器 | ● | ● | ● | ● | |||
| 圓盤電機(jī)控制 | ● | ● | ● | ● | |||
注：*氫擴(kuò)散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電極測(cè)試需配置CS991A精密恒流源或采用CS2350雙恒電位儀。
*光電測(cè)量功能用戶選配。
*產(chǎn)品3年質(zhì)保。
儀器配置
1）儀器主機(jī)1臺(tái)
2）CorrTest測(cè)試與分析軟件1套
3）電解池（含鹽橋和排氣管）1套
4）輔助、參比、工作電極各1支
5）模擬電解池1個(gè)
6）電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
7）電極電纜線1條
8）電極架（選配*）
9）屏蔽箱（選配*）
10）電腦（選配*）
