控溫型智能程控勻膠機(jī)機(jī)身結(jié)構(gòu): 整機(jī)為不銹鋼設(shè)計,耐酸堿,抗沖擊,抗腐蝕,面板按鍵為不銹鋼防水設(shè)計,使整個機(jī)身堅固耐用,清洗方便。控制顯示:設(shè)備配置 3.5 英寸全彩觸摸屏,中文操作界面,操作簡單、快捷,勻膠模式: 用戶可通過觸摸屏對工藝參數(shù)進(jìn)行設(shè)置存儲,不同參數(shù)可隨意調(diào)出,系統(tǒng)支持多工藝組存儲,多段速運行。
控溫型智能程控勻膠機(jī)產(chǎn)品特點:
1.帶進(jìn)膠保護(hù)與報警;
2.旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換;
3.帶速度上升曲線實時顯示;
4.吸附不足報警與互鎖;
5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕;
6.腔室?guī)С閺U氣功能;
7.配方帶掉電保護(hù)功能;
8.加熱溫度:室溫–200℃;
控溫型智能程控勻膠機(jī)技術(shù)參數(shù):
1)基片尺寸:5-200mm
2)速度范圍:1-12000RPM
3)轉(zhuǎn)速精度:1RPM
4)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±0.1%
5)加速度范圍:1-10000RPM/S
6)旋轉(zhuǎn)方向:正反轉(zhuǎn)可切換
7)涂膠均勻性:±1%
8)溫控范圍:室溫-200℃
9)人機(jī)界面:8寸觸摸屏
10)參數(shù)設(shè)置:無限組數(shù)據(jù),每組15段轉(zhuǎn)速(標(biāo)配)或無數(shù)段轉(zhuǎn)速(選配)
11)每段時間:0-10000秒
12)存儲數(shù)據(jù):無限組數(shù)據(jù)
13)通信接口:USB(標(biāo)配)/RS232(選配)/RS485(選配)/RJ45(選配)
14)觸控筆:BAMBOO電阻筆(標(biāo)配)
15)真空泵:AP-550V無油泵/FY油泵
16)勻膠機(jī)交流供電口:AC100-250V
17)真空泵交流供電口:AC220V(標(biāo)配) AC110V(選配)
18)勻膠機(jī)功率:650W
19)真空泵功率:350W
20)真空泵抽速:≥60L/MIN
21)勻膠機(jī)體積:340mm(W)X500mm(D)X250mm(H)
22)勻膠機(jī)重量:18KG
23)泵重量:9KG
24)使用環(huán)境溫度:0-40℃
25)相對濕度:< 85%
26)放置于桌面,可通過自帶水平儀調(diào)節(jié)機(jī)器水平
勻膠機(jī)旋涂儀工作原理
勻膠過程介紹一個典型的勻膠過程包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。
滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。
靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大,往往需要滴較多的膠,進(jìn)而保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。
動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行滴膠,“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態(tài)滴膠尤其適用,不會產(chǎn)生針孔。
滴膠之后,下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚,這個階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發(fā)速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小??焖傩D(zhuǎn)的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時間往往能決定最終膠膜的厚度。
一般來說,勻膠轉(zhuǎn)速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以更好給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達(dá)到平衡。
勻膠工藝中重要的一個因素就是可重復(fù)性。微細(xì)的工藝參數(shù)變化會帶來薄膜特性巨大的差異,下面對一些可變的因素進(jìn)行分析:
旋轉(zhuǎn)速度:
勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中重要的因素?;霓D(zhuǎn)速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力,
而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的湍動和基片與空氣的相對運動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個階段,轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。
膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),粘度越來越大,直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上,膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。
所有勻膠機(jī)規(guī)格要求在量程范圍內(nèi)無論選擇哪個速度勻膠轉(zhuǎn)速偏差不大于±1rpm。而通常實際偏差是±0.2rpm。而且,所有的控制程序和轉(zhuǎn)速顯示的分辨能力都是1rpm。