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PVD-210-HMDS晶片預(yù)處理烘箱

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海實貝儀器設(shè)備廠
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/11/28 8:34:45
  • 訪問次數(shù)16
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~上海實貝儀器設(shè)備廠成立于2010年,是生產(chǎn)實驗室設(shè)備、儀器儀表、醫(yī)用及分析設(shè)備的專業(yè)廠家。企業(yè)憑借專業(yè)的研發(fā)設(shè)計團隊及高效的制造能力,使得產(chǎn)品技術(shù)不斷創(chuàng)新改進提升?,F(xiàn)以生產(chǎn)銷售恒溫設(shè)備為核心的上海實貝儀器設(shè)備廠以全新的面貌服務(wù)于客戶。“服務(wù)于客戶,立足于客戶”是上海實貝儀器設(shè)備廠建廠以來Z根本的經(jīng)營理念,也是我們一直秉承的銷售思路,因為我們一直相信客戶才是企業(yè)的原動力,也是企業(yè)發(fā)展的根本。我們提供給客戶專業(yè)的技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,并建立完善的售后服務(wù),信守誠信經(jīng)營的原則,服務(wù)好我們每一位客戶,讓客戶滿意是我們的責(zé)任與義務(wù)。
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航天、軍事、通訊、機械電子、電器、汽車、化工、生物醫(yī)藥、醫(yī)療、食品、農(nóng)業(yè)科學(xué)、紡織、??圃盒<翱蒲械雀黝愵I(lǐng)域。
主要產(chǎn)品為: 鼓風(fēng)干燥箱,真空干燥箱,高溫烘箱,無塵潔凈烘箱,高低溫試驗箱,恒溫恒濕試驗箱,老化箱,恒溫培養(yǎng)箱,生化霉菌培養(yǎng)箱,恒溫恒濕培養(yǎng)箱,二氧化碳培養(yǎng)箱,恒溫水浴箱,各類工業(yè)流水線烘道產(chǎn)品等。并承接各類非標(biāo)恒溫干燥設(shè)備,環(huán)境試驗箱等。

生產(chǎn)基地規(guī)模占地面積約8000平方米,含激光切割車間、鈑金車間、焊接車間、組裝車間、半成品車間、成品車間、倉庫、辦公樓共約45人左右,是一家中等規(guī)模的生產(chǎn)企業(yè)。近幾年隨著廠區(qū)規(guī)模擴大后,為浙江、山東一帶一些的汽車行業(yè)和零部件用戶提供了大型的干燥機設(shè)備和流水線烘烤箱,以及半導(dǎo)體行業(yè)的HMDS烘箱設(shè)備和無塵烤箱,塑料膜具行業(yè)的真空攪拌機等。

真空干燥箱,電熱鼓風(fēng)干燥箱,高低溫試驗箱,恒溫恒濕箱,恒溫培養(yǎng)箱,無塵烘箱,醫(yī)用水浴箱
HMDS預(yù)處理真空烘箱一、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要
PVD-210-HMDS晶片預(yù)處理烘箱 產(chǎn)品信息



HMDS預(yù)處理真空烘箱


一、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:


在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。


二、產(chǎn)品特點:


1)外殼采用優(yōu)質(zhì)SUS304不銹鋼材質(zhì),內(nèi)膽316L不銹鋼材料;采用不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置;采用鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。


2)箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度。


3) 溫度采用微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫,定時,超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩(wěn)定可靠.


4)智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。


5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性能,確保HMDS氣體無外漏顧慮。


三、技術(shù)參數(shù)


規(guī)格型號

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L

90L

210L

控溫范圍

RT+10250

溫度分辨率

0.1

控溫精度

±0.5

加熱方式

內(nèi)腔體外側(cè)加溫

隔板數(shù)量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍100100000pa

真空泵

抽氣速度4升/秒,型號DM4

電源/功率

AC220/50Hz,3KW

AC380V/50Hz4KW

內(nèi)膽尺寸W*D*H

450*450*450

560*640*600

外形尺寸W*D*H

650*640*1250

1220*930*1755


連接管:316不銹鋼波紋管,將真空泵與真空箱密封無縫連接


備注:選配溫度壓力記錄儀時,因工藝需要改變設(shè)備整個外箱結(jié)構(gòu),請參考實物圖。外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內(nèi)膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*Hmm980x655x1600(含下箱柜高700),下箱柜空置。


四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理:


HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。


五、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:


首先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應(yīng)。


六、尾氣排放:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。


七、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)平臺配置:


DM4直聯(lián)旋片式真空泵,溫度控制器,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊,固態(tài)繼電器,加急停裝置。


選購件:富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)、三色燈、壓力記錄儀和溫度記錄儀。


其它選配:


1)波紋管2米或3米(標(biāo)配含1米)


2)富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)


3)三色燈


4)增加HMDS液體瓶


5)下箱柜子(304不銹鋼)適用于外304不銹鋼內(nèi)316不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)款式


6)壓力溫度記錄儀(帶曲線)


 



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