EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀(噴金儀)。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)上(the rotary stage),蓋好蓋子(the chamber lid),按下啟動(dòng)按鈕,渦輪分子泵開(kāi)始加速,5秒鐘后,機(jī)械泵開(kāi)始啟動(dòng),同時(shí)十秒氣體排空程序啟動(dòng),兩個(gè)泵同時(shí)運(yùn)行確保一個(gè)高真空。當(dāng)渦輪泵加速,它的速度由柱狀圖來(lái)標(biāo)示,到達(dá)速度的一半時(shí),真空計(jì)扭至自動(dòng)狀態(tài)。當(dāng)腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar,排氣開(kāi)始,腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間,排氣的zui后階段,靶材按照預(yù)訂鍍膜時(shí)間開(kāi)始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的,不需要關(guān)泵,繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后,兩個(gè)泵停止,排氣閥排氣。
- 全自動(dòng)一鍵式操作,微處理器數(shù)字控制方式,可預(yù)設(shè)參數(shù)
- LCD屏實(shí)時(shí)顯示狀態(tài)參數(shù)
- 質(zhì)保期:標(biāo)準(zhǔn)保修期為一年
- 高分辨率精細(xì)鍍層(不超過(guò)0.5nm的鉻顆粒大?。?/div>薄金屬鍍層,典型5nm厚渦輪分子泵Peltier冷卻雙濺射頭,無(wú)需冷卻水雙濺射頭:一次真空條件下,可順序?yàn)R射兩種不同的材料,對(duì)于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用磁控濺射靶源設(shè)計(jì)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵為備用泵,機(jī)械泵為外部安裝式儀器參數(shù):儀器尺寸450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)工作腔室硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)加不銹鋼底座110mm(Dia.) x 115mm(H)重量42Kg靶材54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (標(biāo)準(zhǔn)鉻靶材和金靶材)樣品臺(tái)60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋轉(zhuǎn),一定的傾斜度真空泵工作范圍 (Penning)ATM to 1x10-7 mbar,鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar操作真空1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar濺射電流0-175mA濺射時(shí)間0-4 minutes功率1000v at 100 ma, 100 watts沉積速率30nm/min at 100ma渦輪分子泵60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)電源配置230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)ServicesArgon Nominal 4 psi真空泵(*配件)附帶真空管和油氣過(guò)濾器訂購(gòu)信息:貨號(hào)產(chǎn)品名稱規(guī)格91110-THEMS 575T Twin Head Sputter Coater, complete with Target臺(tái)91005Rotary Vacuum Pump個(gè)92045EMS 50 Water Chiller個(gè)
EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可傾斜,適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè),全自動(dòng)控制保證獲得精確的鍍層厚度。低電壓濺射、冷濺射、精細(xì)顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)。可選靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計(jì)在儀表板上,使用方便,滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設(shè)置,就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。
EMS 550本儀器為全自動(dòng)操作,可控制獨(dú)立的真空泵。EMS500是EMS550的手動(dòng)版本,其樣品臺(tái)不帶自動(dòng)旋轉(zhuǎn)功能,其它參數(shù)與EMS550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片:性能特征:- 旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺(tái)
- 高質(zhì)量鍍層厚度(2nm 金膜)
- 精確的可重復(fù)性能
- 均勻沉積厚度
- 復(fù)合樣本固定器
- 全自動(dòng)控制
- 低耗冷卻系統(tǒng),無(wú)需冷卻樣本及樣品臺(tái)
- 低壓濺射
- 20nm(或20埃)
- 微電子控制
- 聚碳酸酯安全殼體
儀器參數(shù):儀器尺寸450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)工作腔室硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)安全罩聚碳酸酯重量18Kg靶材60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材)樣品臺(tái)60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之間可調(diào)真空泵工作范圍ATM-1x10-2 mbar濺射電流0-50mA濺射鍍膜時(shí)間0-4 minutes沉積速率0-25nm/分電源配置230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)產(chǎn)品信息:貨號(hào)產(chǎn)品名稱規(guī)格91000EMS 550 Sputter Coater complete with Target臺(tái)91000-MAEMS 500 Manual Sputter Coater臺(tái)91005Rotary Vacuum Pump
Targets 60mm (Dia.) x 0.1mm (Thick) fitted inclusive as standard個(gè)