名稱：硬質陽極氧化設備

類別：硬質氧化設備

硬質陽極氧化設備技術介紹：氧化膜具有良好的耐磨性、耐侵蝕、耐腐蝕性，根據應用要求不同，膜層厚度可在0.001-0.115英寸（25-125微米）之間或以上，而傳統(tǒng)工藝的膜層厚度一般為0.0001-0.0010英寸（2.5-25微米）。對重量輕且有很高的耐磨、耐腐蝕、絕緣的產品需求不斷增長，使得該種表面處理工藝受到市場歡迎。硬質氧化膜也被用于充當特定材料的連接件，從而減少摩擦系數或形成良好的釋放性能。在絕大多數鋁合金材料上都可獲得超厚緊密的膜層。但是對于合金材料的選擇和工藝溫度都應仔細考慮。 現已發(fā)展出多種硬質陽極氧化工藝是用于各種不同應用。低壓硬質陽極氧化工藝就是使用多功能電源系統(tǒng)在交流電流上疊加直流電流。此種工藝科在較低的電壓下（12-18V）形成高中質量的硬質氧化膜。此外，含銅量很高的合金例如2011可在較短時間內進行陽極氧化而不出現“燒灼”現象，經過T6特別淬火處理的6061合金的氧化膜厚度可達6-7密耳，而直流高壓工藝在此類合金上形成的膜層厚度不超過2.5-3密耳。含銅量更高的2024合金在低壓工藝中也可形成zui厚達6密耳的氧化膜。

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