電子工業(yè)對水質(zhì)的要求:
微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
應(yīng)用場合:
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學(xué)試劑;實(shí)驗(yàn)室和中試車間;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏;高品質(zhì)顯像管、熒光粉生產(chǎn);半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。
典型電子級超純水制備工藝:
預(yù)處理┄反滲透┄水箱┄陽床┄陰床┄混合床┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄精制混床┄微孔膜過濾器┄用水對象
預(yù)處理┄一級反滲透┄pH調(diào)節(jié)裝置┄中間水箱┄二級反滲透┄純水箱┄紫外線殺菌器┄微孔膜過濾器┄用水對象
預(yù)處理┄二級反滲透┄中間水箱┄水泵┄EDI裝置┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄微孔膜過濾器┄用水對象 新工藝
預(yù)處理┄二級反滲透┄中間水箱┄水泵┄EDI裝置┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄拋光混床┄TOC分解器┄微孔膜過濾器┄用水對象 工藝
二級反滲透+混合離子交換器高純水制取工藝流程示意圖