測(cè)量氣體范圍 XT100(M) XT200(M) XT300(M) | 1到100 amu 1到200 amu 1到300 amu |
檢測(cè)類型 | 法拉第杯(FC)或電子倍增器(EM) |
靈敏度(A/mbar) | 5×10-4torr,法拉第杯,氮28, 10%峰高 |
分辨率 | 1 amu ,10%峰高 |
zui小可檢分壓強(qiáng) | 10-11 torr或10-14 torr(電子倍增器),氮28,10%峰高 |
工作范圍 | 10-4 torr到超高真空 |
工作環(huán)境zui高溫度 | 40°C |
烘烤溫度 | 300°C(不包括CCU) |
通訊端口 | RS-232C,115,200 Baud |
軟件運(yùn)行環(huán)境 | Windows® 2000或XP |
利方達(dá)(香港)有限公司于2002年創(chuàng)建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業(yè)的技術(shù)人員和經(jīng)驗(yàn)豐富的市場銷售人員,現(xiàn)已經(jīng)發(fā)展成為由利方達(dá)(香港)有限公司,深圳市利方達(dá)科技有限公司,利方達(dá)科技北京辦事處組成的,集真空產(chǎn)品研發(fā),生產(chǎn)及貿(mào)易以及維修服務(wù)為一體的企業(yè)集團(tuán) 。 我們的業(yè)務(wù)專長于真空及鍍膜設(shè)備領(lǐng)域的代理銷售業(yè)務(wù),致力于把世界上*的技術(shù)和設(shè)備引進(jìn)中國.憑借多年的真空專業(yè)技術(shù)積累, 雄厚的技術(shù)力量和真誠的服務(wù), 我們得到了業(yè)界的眾口稱贊,擁有了大量的客戶群體, 產(chǎn)品廣泛用于真空,光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、平板顯示等相關(guān)領(lǐng)域.
特點(diǎn)及應(yīng)用:
操作簡單
可靠,方便
在線原位分析真空環(huán)境及工藝氣體
定性或定量分析監(jiān)測(cè)濺射鍍膜反應(yīng)工藝過程中真空室內(nèi)的氣體分壓強(qiáng)
優(yōu)化工藝過程參數(shù),提高鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量
對(duì)真空系統(tǒng)檢漏
在工藝中的效果
改善質(zhì)量
提高流片量
減少停機(jī)時(shí)間
改進(jìn)工藝
縮小工藝周期
降低成本