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Angstrom Sciences濺射陰極及靶材

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱利方達(香港)有限公司北京辦事處
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/8/2 15:36:20
  • 訪問次數904
產品標簽:

濺射陰極濺射靶材

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    利方達(香港)有限公司于2002年創(chuàng)建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業(yè)的技術人員和經驗豐富的市場銷售人員,現(xiàn)已經發(fā)展成為由利方達(香港)有限公司,深圳市利方達科技有限公司,利方達科技北京辦事處組成的,集真空產品研發(fā),生產及貿易以及維修服務為一體的企業(yè)集團 。    我們的業(yè)務專長于真空及鍍膜設備領域的代理銷售業(yè)務,致力于把世界上*的技術和設備引進中國.憑借多年的真空專業(yè)技術積累, 雄厚的技術力量和真誠的服務, 我們得到了業(yè)界的眾口稱贊,擁有了大量的客戶群體, 產品廣泛用于真空,光學、電子、半導體、平板顯示等相關領域.


 

射頻電源、中頻電源、直流電源,氣體質量流量計、質量流量控制器,光學膜厚控制儀,殘余氣體分析儀
美國安斯超科學公司(Angstrom Sciences,Inc)成立于1988年, 是一家專業(yè)從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業(yè)公司。的磁場設計和*的水冷技術使其產品倍受歡迎。產品主要應用真空鍍膜的各種領域:航天航空,汽車,微電子,光源,光學,裝飾,顯示器,數據存儲等。
Angstrom Sciences濺射陰極及靶材 產品信息

 

Angstrom Sciences濺射陰極及靶材
美國安斯超科學公司(Angstrom Sciences,Inc)成立于1988年, 是一家專業(yè)從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業(yè)公司。的磁場設計和*的水冷技術使其產品倍受歡迎。產品主要應用真空鍍膜的各種領域:航天航空,汽車,微電子,光源,光學,裝飾,顯示器,數據存儲等。
安斯超公司對磁控濺射靶陰極的磁體外形和冷卻循環(huán)結構進行了科學合理地優(yōu)化設計,并且選取更強的磁體(比稀土磁體強30%),從而使安斯超的靶陰極比常規(guī)的靶陰有更為的性能。
核心技術及特點:
    1. 特殊設計的磁體結構,使得磁場線跨度范圍更寬,從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性
2. 湍流冷卻技術,使得水流能夠更平緩的進入陰極,從而提高冷卻效果
3. 特殊設計的耙材固定結構,使得耙材更換起來更簡單,降低停工期
4. *的磁體材料 NdFeB,他的強度比其他的稀土磁體要強30%
優(yōu)勢
>     *的靶材利用率,zui高可以達到50%,從而降低靶材成本
>     *的產品均勻性,zui高可以達到±3%
>     可以在更低的真空以及更高的功率下運行:zui低壓力可以達到10-4TOR
>     我們的直接水冷結構可以提高其功率密度達到250Watt s/in2
>     提高沉積速率
>     多樣的復合設計
>     高標準高效率
濺射靶陰極翻新
安斯超提供舊的靶陰極翻新服務,使您的靶陰有安斯超*的技術,滿足您的工藝要求。特別有利于大面積沉積鍍膜行業(yè)。
我們可以根據客戶現(xiàn)有陰極的狀況,分析現(xiàn)有的問題,提供切實可行的解決辦法,使得他們現(xiàn)有的陰極也會擁有Angstrom陰極的特點,更高的利用率,更好的均勻性,更高的功率密度等特點。
我們一直致力于為世界上企業(yè)提供全新陰極及陰極翻新的工作。他們是:BOCCT,IVT,LEYBOLD,Materials Science,MRC,Perkin Elmer,Sloan,Ulvac,VAC-TEK,Varian,Veeco,Denton Vacuum,in,Fairchild Semiconductor等。
圓形磁控濺射陰極
關鍵詞:顯示器
15700106413
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