一、硅材料沖洗用高純水設(shè)備應(yīng)用范圍概述:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產(chǎn) 配料用純水
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn) 玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產(chǎn) 屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
二、典型工藝流程
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(工藝)
預(yù)處理-一級(jí)反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥17MΩ.CM) (工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(工藝)
處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
三、達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)
顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)(經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù))
集成電路用純水水質(zhì)
國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)
美國(guó)SEMI標(biāo)準(zhǔn)
四、設(shè)備特點(diǎn)
為滿足用戶需要,達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì),盡可能地減少各級(jí)的污染,延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上,取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水,再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器,活性碳過(guò)濾器,鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無(wú)人職守,同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。