E+H公司推出的多參數(shù)界面測量儀FMP55是業(yè)界集導(dǎo)波雷達(dá)和電容測量原理于一體,專門用于界面高精度測量的物位儀表。E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55的優(yōu)點:可靠的測量——用于帶乳化層的界面測量、用于 動態(tài)液面和泡沫液面的液位測量、用于變化中的介質(zhì)測量;實用性強(qiáng);內(nèi)置數(shù)據(jù)存儲器;工廠預(yù)標(biāo)定;直觀的菜單引導(dǎo)式操作,多種語言可選;便于集成到控制或資產(chǎn)管理系統(tǒng)中;精確的測量和過程診斷,便于快速決;認(rèn)證: ATEX, IEC Ex, FM, CSA
E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55的應(yīng)用領(lǐng)域
FMP55 - 采用帶涂層的多參數(shù)探頭,是油氣、化工和電力行業(yè)界面測量的*儀表
采用冗余的測量系統(tǒng),獲得安全可靠的界面和總物位的測量值.
測量范圍zui大10 m (33 ft)
過程連接:法蘭
測量溫度: -50~+200 °C (-58 ~ +392 °F)
壓力范圍: -1 ~ 40 bar (-14.5 ~ 580 psi)
具有下列系統(tǒng)集成通信接口:
- 4-20mA HART模擬接口
- PROFIBUS PA接口
用于物位監(jiān)測時,符合SIL2要求,由TüV獨立評估,符合IEC 61508標(biāo)準(zhǔn)
E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55革命性的測量方案一舉解決了現(xiàn)有測量手段應(yīng)對復(fù)雜界面檢測固有的限制,真正實現(xiàn)了一臺儀表“全工況”界面測量:精度高、穩(wěn)定性好、重復(fù)性優(yōu)異的目標(biāo)。除了設(shè)計理念的革新,E+H多參數(shù)界面測量儀在研發(fā)之初即充分考慮到現(xiàn)場應(yīng)用、實際維護(hù)與實時測量的復(fù)雜性與多變性,在結(jié)構(gòu)設(shè)計、軟件運算和數(shù)據(jù)維護(hù)等方面進(jìn)行了全面的升級和提高。
在結(jié)構(gòu)設(shè)計上,E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55采用了同軸探頭搭配雙腔殼體。同軸型結(jié)構(gòu)既保證構(gòu)成穩(wěn)定的電容測量,也實現(xiàn)了導(dǎo)波雷達(dá)測量低介電常數(shù)介質(zhì)液面的要求,確保液面和界面測量更穩(wěn)定、更精準(zhǔn)。本安的電子腔室與隔爆的電源腔室相互隔離,確保在防爆場合亦可以打開電子腔室進(jìn)行儀表操作??尚D(zhuǎn)360度的表頭以及具備45度仰角的顯示窗口,極大的便利了現(xiàn)場接線、調(diào)試等操作。不僅如此,F(xiàn)MP55還采用了先進(jìn)的技術(shù),實現(xiàn)更換電子插件后不再需要重新調(diào)試和設(shè)置參數(shù),一分鐘即可做到儀表重新恢復(fù)到正常工作狀態(tài)。解決了用戶不會調(diào)試的后顧之憂,大大方便了用戶。由于FMP55實現(xiàn)了高度的數(shù)字化和智能化,內(nèi)部預(yù)置了豐富的高級預(yù)診斷功能,為儀表安全可靠運行提供了保障。
在液位和界面信號識別方面上,E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55運用了靜態(tài)和動態(tài)算法相結(jié)合的算法,能動態(tài)跟蹤并記錄界面回波的歷史運動軌跡,精確定位出界面的位置。更先進(jìn)的設(shè)計是:當(dāng)被測界面由于各種原因變得不清晰時,如出現(xiàn)乳化層時,為了應(yīng)對導(dǎo)波雷達(dá)在這種情況下會發(fā)生失波的可能,儀表內(nèi)部的智能界面信號識別系統(tǒng)會不斷評估當(dāng)前界面回波的質(zhì)量,利用電容測量值進(jìn)行自動補(bǔ)償,確保持續(xù)穩(wěn)定測量,從而實現(xiàn)了“全工況”的界面測量。
總之,E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55克服了電容和導(dǎo)波雷達(dá)單獨測量界面的局限性,充分發(fā)揮了二種測量原理的優(yōu)勢,結(jié)合先進(jìn)算法實現(xiàn)了復(fù)雜工況下的界面測量,開創(chuàng)了界面測量的先河,為自動化領(lǐng)域的界面測量增添了一種全新的、更為可靠、穩(wěn)定的解決方案。