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Q150TS，高真空鍍膜儀廠家 產(chǎn)品簡述：

金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計，節(jié)約空間 

精細(xì)顆粒濺射：高分辨率場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用 

渦輪分子泵高真空系統(tǒng)：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用，也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺 

全自動觸摸屏控制：快速數(shù)據(jù)輸入，簡單操作 

可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想 

與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動真空控制 

精細(xì)的厚度控制：使用膜厚監(jiān)控選項 

“智能”式系統(tǒng)識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型 

高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想 

蒸發(fā)電流波形控制 

Drop-in落入式快換樣品臺（標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺） 

真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態(tài)，改善后續(xù)真空效果，或在真空條件下保存樣品 

鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達(dá)60分鐘（材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用） 

人體工程學(xué)設(shè)計的整體成型機(jī)殼：易維護(hù)和易拆裝 

帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口：簡單的程序更新 

設(shè)有功率因素補(bǔ)償，有效利用電能，降低運(yùn)行成本 

符合當(dāng)前電器法規(guī)（CE認(rèn)證）。

Q150TS，高真空鍍膜儀廠家 技術(shù)指標(biāo)：

工作腔室：150mm內(nèi)徑 x 127mm高 

觸摸屏全圖像用戶界面 

樣品臺：標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺 

真空系統(tǒng)： 

渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵 

旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵 

濺射電流：0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項）或使用內(nèi)置定時器 

濺射時間：zui長60分鐘 

碳蒸發(fā)：穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。 

金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。 

尺寸和重量：儀器機(jī)箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 （總高: 650mm） 

儀器總重量：33.4Kg

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