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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號CMSD2000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時間:2023-05-30 09:57:54瀏覽次數(shù):393次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線CMSD2000在線式研磨乳化機(jī)設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
CMSD2000在線式研磨乳化機(jī),管線式研磨分散乳化機(jī),高剪切研磨乳化機(jī),立式研磨乳化機(jī),分體式研磨乳化機(jī),管線式研磨乳化機(jī),進(jìn)口研磨乳化機(jī),高剪切研磨乳化機(jī),上海研磨乳化機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
研磨乳化機(jī)是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。7890/13789RPM 可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更?。?。
IKN研磨乳化機(jī)結(jié)構(gòu):三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結(jié)構(gòu),但是他們的設(shè)計不同理念不同,形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。
研磨乳化機(jī)特高精度(8SF)均質(zhì)頭:主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特別適合于微乳化和精細(xì)懸浮,可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。
特別應(yīng)用于:疫苗,細(xì)胞破碎,膠體溶液,金屬氧化物懸浮液,墨水,印刷涂料,色素混合等等。主要針對低粘度范圍的物料,也可以和一個喂料泵相連。
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研磨分散機(jī)的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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