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HI84100二氧化硫滴定分析儀

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HI84100二氧化硫滴定分析儀

詳細(xì)介紹

HI84100二氧化硫滴定分析儀概述：

HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將zui先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

HI84100二氧化硫滴定分析儀特點(diǎn)：

* 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

技術(shù)參數(shù)：

測(cè)量項(xiàng)目	技術(shù)參數(shù)描述
測(cè)量范圍	0 to 400 ppm (mg/L) SO₂
解析度	1 ppm (mg/L)
測(cè)量精度	讀數(shù)的5%
測(cè)量方法	滴定法
測(cè)量原理	等電位氧化還原滴定法
樣品取樣量	50 mL
氧化還原電極類(lèi)型	HI 3148B/50食品玻璃復(fù)合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C
定量泵設(shè)置	流量設(shè)置為：0.5 mL/min
磁力攪拌設(shè)置	攪拌速率設(shè)置為：1500 rpm
適用環(huán)境	0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無(wú)冷凝
電源模式	AC230V/60 Hz；10VA
尺寸重量	主機(jī)尺寸：208 x 214 x 163 mm 主機(jī)重量：2200 g
pH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換關(guān)系
相關(guān)項(xiàng)目		pH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換對(duì)應(yīng)值
pH值		3.0pH	3.1 pH	3.2 pH	3.3 pH	3.4 pH	3.5 pH	3.6 pH	3.7 pH	3.8 pH	3.9 pH
游離二氧化硫（ppm）		14	18	22	28	35	44	55	69	87	109