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二氧化硅混合機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)PLD2000/4

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更新時(shí)間：2016-08-15 15:26:55瀏覽次數(shù)：180次

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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

面對(duì)粉末難易團(tuán)聚，難以分散，粉塵飛揚(yáng)的粉體處理工藝中Z常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題。

詳細(xì)介紹

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二氧化硅的重要用途
二氧化硅的用途很廣。自然界里比較稀少的水晶可用以電子工業(yè)電子的重要部件、光學(xué)儀器和工藝品。
氣相法二氧化硅是極其重要的高科技超微細(xì)無機(jī)新材料之一，由于其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強(qiáng)，表面能大，化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其*的穩(wěn)定性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性和觸變性，在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)*特性，有著不可取代的作用。氣相二氧化硅質(zhì)量小,很輕,極易飛揚(yáng),廣泛應(yīng)用于化妝品等行業(yè)。通常用作補(bǔ)強(qiáng)劑,穩(wěn)定劑或粘度調(diào)節(jié)劑。
二氧化硅的分散難點(diǎn)

二氧化硅加工的難點(diǎn)在于濕化并達(dá)到相應(yīng)的粘度。而且和水（溶劑）混合后容易團(tuán)聚，IKN在這個(gè)行業(yè)擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),能夠滿足不同客戶的要求。

IKN混合設(shè)備在二氧化硅的分散中的優(yōu)勢(shì)

①消除粉塵。IKN為氣相二氧化硅與水的混合,設(shè)計(jì)多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝。

②改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統(tǒng),能夠消除容器壁的物料殘留,改善清潔,并減少原材料浪費(fèi)。

③zui大化成分功能。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難,通常需要足夠的剪切力來達(dá)到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機(jī),為氣相二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力。
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面對(duì)粉末難易團(tuán)聚，難以分散，粉塵飛揚(yáng)的粉體處理工藝中zui常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題

PLD2000設(shè)備的特殊結(jié)構(gòu)和工作原理：裝備了一個(gè)特別設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)子，一個(gè)入口進(jìn)液體，一個(gè)入口進(jìn)粉體，使兩相在瞬間接觸時(shí)就能及時(shí)的將粉體打散。機(jī)器可以循環(huán)操作直到所有粉末加入完畢，然后密封加料入口，在腔體中繼續(xù)分散混合。根據(jù)產(chǎn)品要求，粉末的性狀，zui高添加量可達(dá)80%。另外，如果粘度過高，也可在入口前加一臺(tái)泵。
（更多二氧化硅分散問題請(qǐng)咨詢工程師：段明明，公司有樣機(jī)可提供免費(fèi)實(shí)驗(yàn)）

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