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日本理學(xué)全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310-華普通用

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產(chǎn)品型號(hào)TXRF-V310

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更新時(shí)間:2023-08-05 14:23:39瀏覽次數(shù):157次

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商鋪產(chǎn)品:152條

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聯(lián)系人:韓騰 (經(jīng)理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

日本理學(xué)全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310通過(guò) VPD-TXRF 進(jìn)行晶圓表面污染測(cè)量超痕量元素表面污染的測(cè)量

詳細(xì)介紹

全反射 X 射線熒光光譜儀
全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310
分析可以測(cè)量所有晶圓廠工藝中的污染,包括清潔、光刻、蝕刻、灰化、薄膜等。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310 可以使用單目標(biāo) 3 光束 X 射線系統(tǒng)和無(wú)液氮探測(cè)器系統(tǒng)測(cè)量從鈉到烏的元素。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310包括理學(xué)的XYθ樣品臺(tái)系統(tǒng),真空晶圓機(jī)器人轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和新的用戶友好型Windows軟件。所有這些都有助于提高吞吐量、更高的準(zhǔn)確度和精度,以及簡(jiǎn)化的日常操作。

集成的 VPD 功能可實(shí)現(xiàn)一個(gè)晶圓的自動(dòng) VPD 制備,同時(shí)在另一個(gè)晶圓上進(jìn)行 TXRF 測(cè)量,以獲得的靈敏度和高吞吐量。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310消除了 ICP-MS 可能出現(xiàn)的操作員可變性,并且 VPD-TXRF 可以通過(guò)工廠自動(dòng)化控制。可從選定區(qū)域(包括斜面區(qū)域)進(jìn)行 VPD 恢復(fù)。

可選的掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖,以識(shí)別可以更高精度自動(dòng)重新測(cè)量的“熱點(diǎn)"。

可選的 ZEE-TXRF 功能克服了原始 TXRF 設(shè)計(jì)歷 15 mm 邊緣排除的問(wèn)題,使測(cè)量能夠以零邊緣排除進(jìn)行。

可選的 BAC-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn) 300 mm 晶圓的全自動(dòng)正面和背面 TXRF 測(cè)量,并進(jìn)行非接觸式晶圓翻轉(zhuǎn)。

特征
  • 接受 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶圓

  • 多種分析元素(Na~U)

  • 輕元素靈敏度(針對(duì)鈉、鎂和鋁)

  • 單靶3光束法和XYθ載物臺(tái)是理學(xué)的,可在整個(gè)晶圓表面進(jìn)行高精度的超痕量分析

  • 集成的全自動(dòng) VPD 制備,可實(shí)現(xiàn)靈敏度

  • 1E7 原子/cm2 檢測(cè)限

  • 從缺陷檢測(cè)工具導(dǎo)入測(cè)量坐標(biāo)以進(jìn)行后續(xù)分析

  • 多任務(wù)處理:同時(shí)進(jìn)行 VPD 和 TXRF 操作,實(shí)現(xiàn)吞吐量

規(guī)格
產(chǎn)品名稱TXRF-V310
技術(shù)全反射 X 射線熒光 (TXRF) 帶氣相分解 (VPD)
效益超痕量元素表面污染的測(cè)量;1E7 原子/cm2 檢測(cè)限
科技自動(dòng) VPD 制備、三光束激發(fā)和自動(dòng)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)
核心屬性自動(dòng) VPD、旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極 X 射線源、XYθ 樣品臺(tái)、無(wú)液氮檢測(cè)器,可接受 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶圓
核心選項(xiàng)用于全工廠自動(dòng)化的 GEM-300 自動(dòng)化軟件,SP-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)整個(gè)晶圓表面的映射,ZEE-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)零邊緣排除測(cè)量,BAC-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)正面和背面測(cè)量
計(jì)算機(jī)內(nèi)置電腦,微軟視窗操作系統(tǒng)®
核心尺寸1200(寬)x 2050(高)x 2990(深)毫米
質(zhì)量1650公斤(核心單元)
電源要求3?, 200 VAC 50/60 Hz, 125 A


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