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深圳海納光學(xué)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 激光護(hù)目鏡,可飽和吸收鏡,衍射光學(xué)元件,光束整形器,太赫茲透鏡,太陽(yáng)能模擬器,太赫茲相機(jī),激光測(cè)量?jī)x,離軸拋物面鏡,微透鏡陣列

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Cr:LiSAF晶體Tm,Ho:KYW激光晶體、Cr:LiSAF晶體 壓電晶體
Tm,Ho:KYW激光晶體、Cr:LiSAF晶體 壓電晶體
參考價(jià) 6000
訂貨量 1個(gè)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) Cr:LiSAF晶體
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 深圳市

聯(lián)系方式:劉先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2023-02-01 09:02:41瀏覽次數(shù):1168

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【簡(jiǎn)單介紹】
加工定制
Tm,Ho:KYW激光晶體、Cr:LiSAF晶體,激光晶體是激光內(nèi)部光學(xué)增益的來源。與Tm3 +離子相比,Ho3 +離子通常具有更高的發(fā)射截面和更長(zhǎng)的較高激光能級(jí)壽命。

海納光學(xué)代理的Tm,Ho:KYW激光晶體、Cr:LiSAF晶體激光晶體-有源激光介質(zhì)是激光內(nèi)部光學(xué)增益的來源。激光晶體或激光玻璃通常摻雜稀土離子(例如釹、鐿或鉺)或過渡金屬離子(鈦或鉻)。為了激發(fā)激光,有源增益介質(zhì)必須處于非熱能分布中,即粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。Optogama開發(fā)了不同的激光晶體主機(jī)和離子摻雜劑組合,用于基礎(chǔ)研究和工業(yè)應(yīng)用。Tm,Ho:KYW晶體、Cr:LiSAF晶體是其中兩款比較有特色的激光晶體。

Tm,Ho:KYW激光晶體、Cr:LiSAF晶體

Cr3 +:LiSAF增益介質(zhì)在近紅外線中具有較寬的發(fā)射帶,可通過鎖模技術(shù)廣泛地調(diào)節(jié)激光操作并產(chǎn)生約10 fs的光脈沖。Cr:LiSAF晶體可以以非常低的損耗水平(0.2%/ cm)生長(zhǎng),并且能夠構(gòu)建高Q腔,從而導(dǎo)致激光閾值低至2 mW,斜率效率高于50%。此外,Cr:LiSAF的非線性折射率比Ti:藍(lán)寶石低約四倍,這減少了超短脈沖產(chǎn)生和放大中不想要的非線性。

 

與Tm3 +離子相比,Ho3 +離子通常具有更高的發(fā)射截面和更長(zhǎng)的較高激光能級(jí)壽命。這些特征對(duì)于低閾值和有效的激光操作特別理想。但是,人們認(rèn)識(shí)到,由于Ho3 +不具有與市售激光二極管的輸出*匹配的強(qiáng)吸收線,因此通常選擇Ho3 +與Tm3 +離子共摻雜以實(shí)現(xiàn)在2μm光譜范圍內(nèi)有效工作。Tm-Ho系統(tǒng)中的能量傳遞路徑。 Tm,Ho:KYW晶體的特征是大而寬的極化吸收和發(fā)射帶,有效的能量傳遞Tm3 +→Ho3 +。

 

Tm,Ho:KYW晶體主要特點(diǎn):

-大而寬的偏振吸收和發(fā)射帶

-有效能量傳遞TM3+→Ho3+

-高摻雜濃度低濃度淬火

-可根據(jù)要求提供定制水晶

 

Tm,Ho:KYW晶體主要應(yīng)用:

- 2μm型遙感激光器(激光雷達(dá)技術(shù))、計(jì)量和醫(yī)療應(yīng)用

-中紅外光學(xué)參量振蕩器的泵浦源。

 

Tm,Ho:KYW晶體技術(shù)特性:

吸收峰波長(zhǎng) 802 nm

峰值吸收截面 7.6×10-20厘米2

峰值吸收帶寬 ~4nm

激光波長(zhǎng) 2060 nm

5~7能級(jí)時(shí)間 1.8毫秒

發(fā)射截面@2056 nm 4.7×10-20厘米2

折射率@1040 nm ng=2.05,nm=2.01,np=1.97

晶體結(jié)構(gòu) 單斜

密度 6.5克/cm3

Mohs硬度 4-5

熱導(dǎo)率 ~3.3Wm-1K-1

DN/DT DNm/dt=-9.2×10-6 K-1

熱膨脹系數(shù) αp=1.83×10-6 K-1、αm=10.29×10-6 K-1, 

αg=15.94×10-6 K-1

典型摻雜水平 5%[TM],0.5%[HO]

Tm,Ho:KYW晶體的吸收和發(fā)射曲線

 

Tm,Ho:KYW晶體產(chǎn)品規(guī)格:

定向 Ng-切割

透明孔徑 >90%

面尺寸公差 +0/-0.1毫米

長(zhǎng)度公差 ±0.1毫米

平行度誤差 <10 arcsec

垂直度誤差 <10 arcmin

保護(hù)槽 <0,1 mm at 45?

表面質(zhì)量 10-5 S-D

表面平整度 <λ/10@6328 nm

涂層 R<0,5%@802 nm+R<0,15%@2000-2100

利特 >10 J/cm2@2060 nm,10 ns

 

Tm,Ho:KYW晶體產(chǎn)品型號(hào)

SKU 面尺寸 長(zhǎng)度 端面 摻雜 涂層 價(jià)格(RMB)

7855 3x3毫米 2毫米 直角切割 TM 5%,Ho 0 5% AR/Ar@802nm+2000-2100 nm 5600

7856 3x3毫米 2毫米 布魯斯特切 TM 5%Ho 0 5% 無涂層 4400

 

Cr:LiSAF晶體主要特點(diǎn):

-寬吸收和發(fā)射帶

-非線性折射率比Ti:藍(lán)寶石低四倍。

-可根據(jù)要求提供定制水晶

Cr:LiSAF晶體主要應(yīng)用:

-飛秒激光與CPA激光系統(tǒng)

 

Cr:LiSAF晶體技術(shù)特性:

吸收峰波長(zhǎng) 670 nm

峰值吸收截面 5.5×10-20cm2

峰值吸收帶寬 ~100 nm

激光波長(zhǎng) 830(780-920)nm

壽命4T2能級(jí) 67 μs

發(fā)射截面 5×10-20cm2

折射率 1.41

晶體結(jié)構(gòu) 三角狀

密度 3.45公斤/厘米3

Mohs硬度 4

熱導(dǎo)率 4.6(x{e76f}a),5.1(x{e76f}c)Wm-1K-1

DN/DT -4,2×10-6K-1(no), -4,6×10-6 K-1(N)e)

熱膨脹系數(shù) 22×10-6(x{e76f}a)K-1, 3.6×10-6(x{e76f}c)K-1

典型摻雜水平 0.8%-1.5%

Cr:LiSAF晶體的吸收和發(fā)射曲線

 

Cr:LiSAF晶體產(chǎn)品規(guī)格:

方向 b切

透明孔徑 >90%

面尺寸公差 +0/-0.1毫米

長(zhǎng)度公差 ±0.1毫米

平行度誤差 <10 arcsec

垂直度誤差 <10 arcmin

保護(hù)槽 <0.1 mm at 45?

表面質(zhì)量 10-5 S-D

表面平整度 <λ/8@6328 nm

波前畸變 <λ/4@6328 nm

涂層 Ar(R<0.5%)@450~800 nm

激光損傷閾值 >10 J/cm2@1064 nm,10 ns



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