污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
大連正清水處理設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間:2023-08-11 09:53:21瀏覽次數(shù):795次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線大連電子元件生產(chǎn)用超純水設(shè)備, EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃ )
大連電子元件生產(chǎn)用超純水設(shè)備
EDI技術(shù)介紹:
EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃ ),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超純水。
EDI設(shè)備特點(diǎn):
1、產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定、連續(xù)
2、操作簡(jiǎn)單、安全
3、不會(huì)因再生而停機(jī)
4、不需酸、堿化學(xué)藥劑再生
5、運(yùn)行費(fèi)用低于混床
6、占地面積小
7、無(wú)污水排放
8、容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
大連電子元件生產(chǎn)用超純水設(shè)備
EDI進(jìn)水水質(zhì)要求:
1、TEA (含CO2 ) <25mg/L as CaCO3,
2、PH值5-9,
3、總硬度<1 mg/L as CaCO3,
4、硅<0.5 mg/L,
5、TOC<0.5 mg/L,
6、余氯<0.05 mg/L,
7、Fe,Mn,H2S <0.01 mg/L,
8、電導(dǎo)率40-2μS/cm(25℃)
應(yīng)用領(lǐng)域
1、電廠化學(xué)水處理
2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水
3、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水
4、制藥工業(yè)工藝用水
5、其他行業(yè)所需的高純水制備
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主營(yíng)產(chǎn)品:水過(guò)濾設(shè)備、軟化水設(shè)備、超濾(UF)設(shè)備、RO反滲透純水設(shè)備、苦咸水淡化設(shè)備、EDI超純水設(shè)備、除鐵錳設(shè)備
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