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行業(yè)產(chǎn)品

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邁可諾技術(shù)有限公司


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美國(guó)Futurrex光刻膠

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參   考   價(jià): 18

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)全系列

品       牌

廠(chǎng)商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

聯(lián)系方式:趙先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2021-05-21 11:40:33瀏覽次數(shù):751次

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經(jīng)營(yíng)模式:代理商

商鋪產(chǎn)品:59條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:趙先生 (經(jīng)理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
膠黏附性 優(yōu)    

Futurrex 成立于1985年,是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng),從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。

詳細(xì)介紹

 

應(yīng)用領(lǐng)域

型號(hào)

特性

半導(dǎo)體

NR9-PY

用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫

NR71-PY

用于lift-off工藝,高溫,可作為間隔材料

NR9-P

高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

NR71-P

做掩膜,適用于干法刻蝕,可作為間隔材料

NR21-P

100um的膜厚,具有良好的分辨率

NR5

可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

PR1

耐高溫,用于一般圖案的正性光刻膠,離子刻蝕,濕法刻蝕

IC1/DC5

濾波等電解質(zhì)材料

PC3

平坦化,臨時(shí)黏附及機(jī)械保護(hù)

BDC1/PDC1/ZPDC1

摻雜工藝

太陽(yáng)能

BDC1

摻硼材料

PDC1

摻磷材料

NR71/NR9-PY

用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

NR9-P

高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

LED/OLED/HBLED

NR9-PY

用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫

NR71-P

做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

IC1

濾波等電解質(zhì)材料

MEMS

NR9-P

高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

NR5/NR71

可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕/做掩膜,可作間隔材料

NR2

可實(shí)現(xiàn)120um膜厚,61深寬比的圖案,適用于電鍍、濕法刻蝕

NR71/NR9-PY

用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

PC3

平坦化,臨時(shí)黏附及機(jī)械保護(hù)

IC1

濾波等電解質(zhì)材料

微流體與生物芯片

NR71-P

做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

NR2

可實(shí)現(xiàn)120um膜厚,61深寬比的圖案,適用于電鍍、濕法刻蝕

NR5

可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

光電子

NR71/NR9-PY

用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

NR71-P

做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

PR1

刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

NR9-P

高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

NR2-P

可實(shí)現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠

封裝

NR2-P

可實(shí)現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠

NR5

可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

PR1

刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

平坦化

PC3

平坦化,臨時(shí)黏附及機(jī)械保護(hù)

圖案印刷

PR1

刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

NR9

增強(qiáng)了黏附性,適用于噴涂和輥涂

顯影液

RD6

顯影時(shí)間短,適用于正、負(fù)性光刻膠,

去膠液

RR41/RR5

可以安全、高效的去除光刻膠及臨時(shí)涂層,適用于多種襯底材料

邊膠清洗液

EBR2

高效、快速的邊膠去除

 

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 光刻膠 美國(guó)Futurrex光刻膠

關(guān)鍵詞:芯片

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