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安平縣奧翔過濾設備廠
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更新時間:2022-08-03 13:42:16瀏覽次數(shù):901次
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電鍍銅簡介
(copper plating) 是使用zui廣泛的一種預鍍層。錫焊件、鉛錫合金、鋅壓鑄件在鍍鎳、金、銀之前都要鍍銅,用于改善鍍層結合力。銅鍍層是重要的防護裝飾性鍍層銅/鎳/鉻體系的組成部分,柔韌而孔隙率低的銅鍍層,對于提高鍍層間的結合力和耐蝕性起重要作用。銅鍍層還用于局部的防滲碳、印制板孔金屬化,并作為印刷輥的表面層。經(jīng)化學處理后的彩色銅層,涂上有機膜,還可用于裝飾。目前使用zui多的鍍銅溶液是氰化物鍍液、硫酸鹽鍍液和焦磷酸鹽鍍液。
(copper(electro)plating;electrocoppering ) 用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,修復磨損部分,防止局部滲碳和提高導電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細致光滑的銅鍍層,將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、氰化鈉和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進行堿性(氰化物)鍍銅。為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用。
1985年以前電路板業(yè)之電鍍銅,幾乎全部采用60℃高溫操作的焦磷酸銅(CoPPer PyroPhosPhate;Cu2P2O7)制程,系利用焦磷酸之錯合劑(Complexing Agent)做為基本配方。彼時zui流行的商業(yè)制程就是M&T的添加劑PY-61H。但由于高溫槽液及PH值又在8.0以上,對于長時間二次銅所用到的堿性水溶油墨或干膜等阻劑,都不免會造成傷害。不但對板面之線路鍍銅(Pattern Plating)品質不利。且槽液本身也容易水解而成為反效果正磷酸(H3PO4),再加上阻劑難以避免被溶解所累積的有機污染等因素,導致焦磷酸銅的管理困難,而被業(yè)者們視為畏途。然而新亮相非錯合劑的低溫 (15oC-20oC)硫酸銅制程,當年則因其成熟度不夠也使得用戶們足了苦頭。直到1988年以后硫酸銅才逐漸正式取代了先前的焦磷酸銅,而成為*的基本配方。
十年后(1995)的電路板開始采孔徑0.35mm或14mil以下的小孔,在板厚不變或板厚增加下,常使得待鍍之通孔出現(xiàn)4:l至10:l高縱橫比的困難境界。為了增加深孔鍍銅的分布力(Throwing Power)起見,首先即調高槽液基本配方的酸銅比(拉高至10:l以上),并也另在添加劑配方上著手變化。而且還將固有垂直掛鍍的設備中,更換其傳統(tǒng)直流(DC)供電,轉型為變化電流(廣義的AC)式反脈沖電流(Reverse Pulse)的革新方式。要其反電流密度很大但間卻很短的情況下,冀能將兩端孔口附近較厚的鍍銅層予以減薄,但又不致影響深孔中心銅層應有的厚度,于是各種脈沖供電方式也進入了鍍銅的領域。
隨后為了方便薄板的操作與深孔穿透以及自動化能力起見,板面一次銅(全板鍍銅)的操作,又曾改變?yōu)樗阶宰叻绞降碾婂冦~。在其陰陽極距離大幅拉近而降低電阻下,可用之電流密度遂得以提高2-4倍,而使量產(chǎn)能力為之大增。此種新式密閉水平鍍銅之陽極起先還沿用可溶的銅球,但為了減少量產(chǎn)中頻繁拆機,一再補充銅球的麻煩起見,后來又改采非溶解性的鈦網(wǎng)陽極。而且另在反脈沖電源的協(xié)助下,不但對高縱橫比小徑深孔的量產(chǎn)如虎添翼,更對2001年興起的HDI雷射微盲孔(Microvia)也極有助益。不過也由于非溶陽極已不再出現(xiàn)溶銅之主反應,而將所有能量集中于“產(chǎn)生氧氣”之不良副反應,久之難免會對添加劑與Ir/Ti式DSA(商標名稱為" 尺寸安定式陽極")昂貴的非溶陽極造成傷害,甚至還影響到鍍銅層的物理性質。至于2002年新冒出二階深微肓孔所需的填孔鍍銅,已使得水平鍍銅出現(xiàn)了力猶未逮的窘境。對于此種困難,勢必又將是另一番新的挑戰(zhàn)。
1999初日本上村公司曾推出一種U-CON制程,即屬精密擾流噴流之槽液,與恢復兩側銅陽極的垂直自走掛鍍;但由于成本及售價都極為昂貴,故目前中國臺灣業(yè)界只有少數(shù)生產(chǎn)線而尚待后續(xù)流行。三年來量產(chǎn)的水平電鍍銅幾乎已發(fā)展到了極限,于是恢復銅陽極的自正式掛鍍又開始受到重視。目前國產(chǎn)設備供貨商已有造利公司推出新機,其品質與成效如何仍有待*量產(chǎn)的考驗。
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