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小型磁控濺射鍍膜機(jī)

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北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低

詳細(xì)介紹

1.設(shè)備簡(jiǎn)介
?小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開(kāi)發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置，比較靈活；標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺(tái)500W直流濺射電源，主要用來(lái)開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。
2.設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)
????2.1??實(shí)用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件；通過(guò)更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用；
????2.2??方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔；
????2.3??高性?xún)r(jià)比：設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國(guó)內(nèi)，以國(guó)產(chǎn)設(shè)備的價(jià)格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置，從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能；
????2.4??安全性：獨(dú)立開(kāi)發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能，保證了設(shè)備的使用安全性能；
3.主要技術(shù)參數(shù)
???3.1?腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接；
???3.2?樣品臺(tái)尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào)；
???3.3?真空系統(tǒng)：機(jī)械泵（TRP-12,3L/s）+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)（可選國(guó)產(chǎn)分子泵）；GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm?限流閥；
???3.4?極限真空：8.0×10-5Pa；
???3.5?真空抽速：大氣～8×10-4Pa?≤?20min；
???3.6?真空測(cè)量：全量程復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍：105Pa～10-5Pa；
???3.7?磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；
???3.8?濺射電源：直流和射頻可選；
???3.9?質(zhì)量流量計(jì)：20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套；
???3.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能；
???3.11設(shè)備外形：L60cm×W60cm×H96cm機(jī)電一體化機(jī)架，預(yù)留1個(gè)KF40法蘭接口；
???3.12?設(shè)備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；
???3.13?冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設(shè)備相關(guān)需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水