污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京哲勤科技有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號IoN 40 / M4L
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地上海市
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更新時間：2023-05-30 09:58:27瀏覽次數(shù)：1675次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線PVA TePla 公司的IoN 40 等離子體設(shè)備是為實驗室和生產(chǎn)領(lǐng)域設(shè)計的全功能的等離子體處理設(shè)備。該設(shè)備外觀簡潔，系統(tǒng)高度集成化，可應(yīng)用與半導(dǎo)體、生物技術(shù)、電子、醫(yī)療、材料等各個領(lǐng)域。PVA TePla公司的高品質(zhì)、高性價比、操作簡單的等離子體設(shè)備為各種不同應(yīng)用領(lǐng)域提供了*的創(chuàng)新解決方案，得到用戶的廣泛信賴。
PVA-TePla 射頻等離子體去膠機（*）
型號：IoN 40 (M4L 升級版)
典型應(yīng)用：
去除光刻膠 Photo-resist Stripping
表面精密清潔 Surface Precision Cleaning
表面活化 Surface Modification
提高表面粘合性 Bond Strength Enhancements
改變表面親水性/疏水性 Hydrophilic/Hydrophobic
分子接枝 Molecular Grafting
涂層 Plasma Deposited Coatings
規(guī)格參數(shù)：
13.56MHz風(fēng)冷射頻電源（0～600w可調(diào)，可選0～300W，0-1000W），
高靈敏快速自動匹配功能
陽極表面處理鋁制腔體，
水平抽卸極板/垂直極板/側(cè)壁極板/水冷極板，
不銹鋼防腐蝕MFC，
多至6路氣體，
兼容8英寸及以下晶圓
可選配法拉第桶
可選配壓力控制系統(tǒng)
PC工控機控制，運行數(shù)據(jù)自動存儲
觸控屏圖形化界面
外形尺寸：775×723×781 mm
認(rèn)證：
CE 認(rèn)證
EN 61010
EN 61326
Semi E95
USP Class VI
FDA CFR Title 21 Part 11
CISPR 55011
ISO 9001
NFPA79
NFPA70
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